太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺

单云冲; 阮久福; 杨军; 邓光晟; 吕国强

doi:10.11884/HPLPB201426.053102

强激光与粒子束

太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺

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单云冲, 阮久福, 杨军, 邓光晟, 吕国强. 2014: 太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺, 强激光与粒子束, 26(5): 201-205. doi: 10.11884/HPLPB201426.053102

引用本文:

单云冲, 阮久福, 杨军, 邓光晟, 吕国强. 2014: 太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺, 强激光与粒子束, 26(5): 201-205. doi: 10.11884/HPLPB201426.053102

Shan Yunchong, Ruan Jiufu, Yang Jun, Deng Guangsheng, Lü Guoqiang. 2014: Terahertz metal bi-grating fabrication using ultra-thick photoresist process, High Power Lase and Particle Beams, 26(5): 201-205. doi: 10.11884/HPLPB201426.053102

Citation:

Shan Yunchong, Ruan Jiufu, Yang Jun, Deng Guangsheng, Lü Guoqiang. 2014: Terahertz metal bi-grating fabrication using ultra-thick photoresist process, High Power Lase and Particle Beams, 26(5): 201-205. doi: 10.11884/HPLPB201426.053102

太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺

特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学),合肥230009;合肥工业大学光电技术研究院,合肥230009;合肥工业大学仪器科学与光电工程学院,合肥230009
特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学),合肥230009;合肥工业大学光电技术研究院,合肥230009

Terahertz metal bi-grating fabrication using ultra-thick photoresist process

摘要: 介绍了制备某太赫兹频率真空辐射光栅的超厚胶光刻工艺,针对工艺中的难点(大厚度和高深宽比)展开了深入分析.实验分析了基片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影等工艺过程对光刻的影响,通过优化工艺参数,解决了胶膜脱落、开裂,不同胶层间的结合,光栅沟槽间的光刻胶残留等问题,成功制备了厚度为700μm、深宽比为14的侧壁陡直、表面平整的双光栅结构胶膜.
- 双光栅 /
- 太赫兹 /
- 光刻 /
- 超厚胶 /
- 深宽比

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太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺

特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学),合肥230009;合肥工业大学光电技术研究院,合肥230009;合肥工业大学仪器科学与光电工程学院,合肥230009
特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学),合肥230009;合肥工业大学光电技术研究院,合肥230009

关键词:

双光栅 /
太赫兹 /
光刻 /
超厚胶 /
深宽比

摘要: 介绍了制备某太赫兹频率真空辐射光栅的超厚胶光刻工艺,针对工艺中的难点(大厚度和高深宽比)展开了深入分析.实验分析了基片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影等工艺过程对光刻的影响,通过优化工艺参数,解决了胶膜脱落、开裂,不同胶层间的结合,光栅沟槽间的光刻胶残留等问题,成功制备了厚度为700μm、深宽比为14的侧壁陡直、表面平整的双光栅结构胶膜.