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磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究

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何世峰, 涂昱淳, 冯志祥, 岳帅鹏, 王风丽, 朱京涛. 2014: 磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究, 强激光与粒子束, 26(5): 228-231. doi: 10.11884/HPLPB201426.054002
引用本文: 何世峰, 涂昱淳, 冯志祥, 岳帅鹏, 王风丽, 朱京涛. 2014: 磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究, 强激光与粒子束, 26(5): 228-231. doi: 10.11884/HPLPB201426.054002
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He Shifeng, Tu Yuchun, Feng Zhixiang, Yue Shuaipeng, Wang Fengli, Zhu Jingtao. 2014: Stress analysis of high reflective multilayers fabricated by magnetron sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 26(5): 228-231. doi: 10.11884/HPLPB201426.054002
Citation: He Shifeng, Tu Yuchun, Feng Zhixiang, Yue Shuaipeng, Wang Fengli, Zhu Jingtao. 2014: Stress analysis of high reflective multilayers fabricated by magnetron sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 26(5): 228-231. doi: 10.11884/HPLPB201426.054002
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磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究

  • 同济大学物理科学与工程学院,先进微结构材料教育部重点实验室,上海200092

Stress analysis of high reflective multilayers fabricated by magnetron sputtering

  • 摘要: 为制备硼边附近6.7 nm波长的极紫外高反射率多层膜反射镜,研究了Mo2C/B4C,Mo/B4C周期多层膜,重点解决薄膜应力难题.采用直流磁控溅射技术制备了膜层厚度为30 nm的Mo,Mo2C,B4C单层膜,周期厚度为3.5 nm,30对的Mo2 C/B4C,Mo/B4C周期多层膜.利用台阶仪测试了镀膜前后基底面形,计算并比较了不同薄膜样品的应力值.结果表明Mo2 C/B4C多层膜压应力要远小于Mo/B4C多层膜,且成膜质量与Mo/B4C相当.因此Mo2C/B4C是应用于6.7 nm反射镜较好的多层膜材料组合.
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出版历程
  • 刊出日期:  2014-05-30

磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究

  • 同济大学物理科学与工程学院,先进微结构材料教育部重点实验室,上海200092

摘要: 为制备硼边附近6.7 nm波长的极紫外高反射率多层膜反射镜,研究了Mo2C/B4C,Mo/B4C周期多层膜,重点解决薄膜应力难题.采用直流磁控溅射技术制备了膜层厚度为30 nm的Mo,Mo2C,B4C单层膜,周期厚度为3.5 nm,30对的Mo2 C/B4C,Mo/B4C周期多层膜.利用台阶仪测试了镀膜前后基底面形,计算并比较了不同薄膜样品的应力值.结果表明Mo2 C/B4C多层膜压应力要远小于Mo/B4C多层膜,且成膜质量与Mo/B4C相当.因此Mo2C/B4C是应用于6.7 nm反射镜较好的多层膜材料组合.

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