高级搜索

抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响

,  ,  ,  , 

downloadPDF

上一篇

下一篇

王洪祥, 朱本温, 陈贤华, 侯晶, 王景贺. 2015: 抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响, 强激光与粒子束, 27(4): 108-112. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
引用本文: 王洪祥, 朱本温, 陈贤华, 侯晶, 王景贺. 2015: 抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响, 强激光与粒子束, 27(4): 108-112. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
shu
Wang Hongxiang, Zhu Benwen, Chen Xianhua, Hou Jing, Wang Jinghe. 2015: Impact of polishing process parameters on the low frequency surface accuracy of fused silica optics, High Power Lase and Particle Beams, 27(4): 108-112. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
Citation: Wang Hongxiang, Zhu Benwen, Chen Xianhua, Hou Jing, Wang Jinghe. 2015: Impact of polishing process parameters on the low frequency surface accuracy of fused silica optics, High Power Lase and Particle Beams, 27(4): 108-112. doi: 10.11884/HPLPB201527.042001
shu

抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响

  • 哈尔滨工业大学机电工程学院,哈尔滨,150001

  • 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳,621900

  • 哈尔滨工业大学机电工程学院,哈尔滨150001;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900

Impact of polishing process parameters on the low frequency surface accuracy of fused silica optics

  • 摘要: 根据工件与抛光盘的相对运动关系及熔石英元件抛光加工材料去除模型,系统分析了转速比和偏心距等参数对材料去除函数的影响.通过理论分析和抛光加工实验,研究了不同工艺参数对低频段面形精度的影响规律.利用高分辨率检测仪器对熔石英元件低频面形误差进行了检测,优选出较佳的抛光工艺参数组合,并进行了相应的实验验证,提出了提高光学元件抛光加工低频面形质量的相应措施.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  311
  • HTML全文浏览数:  51
  • PDF下载数:  25
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2015-04-30

抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响

  • 哈尔滨工业大学机电工程学院,哈尔滨,150001
  • 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳,621900
  • 哈尔滨工业大学机电工程学院,哈尔滨150001;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900

摘要: 根据工件与抛光盘的相对运动关系及熔石英元件抛光加工材料去除模型,系统分析了转速比和偏心距等参数对材料去除函数的影响.通过理论分析和抛光加工实验,研究了不同工艺参数对低频段面形精度的影响规律.利用高分辨率检测仪器对熔石英元件低频面形误差进行了检测,优选出较佳的抛光工艺参数组合,并进行了相应的实验验证,提出了提高光学元件抛光加工低频面形质量的相应措施.

English Abstract

    全文HTML

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回