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二维胶体晶体刻蚀法及其应用

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李越, 蔡伟平, 孙丰强, 张立德. 2003: 二维胶体晶体刻蚀法及其应用, 物理, 32(3): 153-158. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2003.03.006
引用本文: 李越, 蔡伟平, 孙丰强, 张立德. 2003: 二维胶体晶体刻蚀法及其应用, 物理, 32(3): 153-158. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2003.03.006
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2003: TWO-DIMENSIONAL COLLOID CRYSTAL LITHOGRAPHY AND ITS APPLICATIONS, Physics, 32(3): 153-158. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2003.03.006
Citation: 2003: TWO-DIMENSIONAL COLLOID CRYSTAL LITHOGRAPHY AND ITS APPLICATIONS, Physics, 32(3): 153-158. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2003.03.006
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二维胶体晶体刻蚀法及其应用

  • 中国科学院固体物理研究所,合肥,230031

TWO-DIMENSIONAL COLLOID CRYSTAL LITHOGRAPHY AND ITS APPLICATIONS

  • 摘要: 二维胶体晶体刻蚀法合成二维有序纳米颗粒阵列具有操作简单、成本低、易于实现规模化的优点.它可方便地控制纳米颗粒阵列的形态(即颗粒的间距、尺寸、形状甚至成分等),从而实现阵列性质的大范围调制.而二维胶体晶体的合成是这种刻蚀技术的关键,文章着重介绍其形成的基本过程、影响因素及其合成技术;概述胶体晶体刻蚀技术的应用,并对此进行展望.
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出版历程
  • 刊出日期:  2003-03-12

二维胶体晶体刻蚀法及其应用

  • 中国科学院固体物理研究所,合肥,230031

摘要: 二维胶体晶体刻蚀法合成二维有序纳米颗粒阵列具有操作简单、成本低、易于实现规模化的优点.它可方便地控制纳米颗粒阵列的形态(即颗粒的间距、尺寸、形状甚至成分等),从而实现阵列性质的大范围调制.而二维胶体晶体的合成是这种刻蚀技术的关键,文章着重介绍其形成的基本过程、影响因素及其合成技术;概述胶体晶体刻蚀技术的应用,并对此进行展望.

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