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天冬氨酸在Cu(001)表面吸附的扫描隧道显微镜研究

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王浩, 赵学应, 杨威生. 2000: 天冬氨酸在Cu(001)表面吸附的扫描隧道显微镜研究, 物理学报, 49(7): 1316-1320. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.021
引用本文: 王浩, 赵学应, 杨威生. 2000: 天冬氨酸在Cu(001)表面吸附的扫描隧道显微镜研究, 物理学报, 49(7): 1316-1320. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.021
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WANG HAO, ZHAO XUE-YING, YANG WEI-SHENG. 2000: ADSORPTION OF ASPARTIC ACID ON Cu(001) STUDIED BY SCANNING TUNNELING MICROSCOPY, Acta Physica Sinica, 49(7): 1316-1320. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.021
Citation: WANG HAO, ZHAO XUE-YING, YANG WEI-SHENG. 2000: ADSORPTION OF ASPARTIC ACID ON Cu(001) STUDIED BY SCANNING TUNNELING MICROSCOPY, Acta Physica Sinica, 49(7): 1316-1320. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.021
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天冬氨酸在Cu(001)表面吸附的扫描隧道显微镜研究

  • 北京大学物理系,人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京,100871

ADSORPTION OF ASPARTIC ACID ON Cu(001) STUDIED BY SCANNING TUNNELING MICROSCOPY

  • 摘要: 用扫描隧道显微镜(STM)研究了室温下天冬氨酸在Cu(001)表面的吸附行为.实验发现,在较低的覆盖度下,天冬氨酸分子在Cu(001)表面存在两种吸附状态.从STM数据估算出两种吸附状态下天冬氨酸分子在Cu(001)表面的扩散激活能分别为0.79±0.01?eV,0.88±0.05?eV.随着覆盖度的提高,天冬氨酸分子最终在Cu(001)表面形成一均匀衬度的吸附层,但并不形成有序吸附结构,也不能使台阶发生小面化.天冬氨酸分子的这些吸附特点是迄今研究过的所有氨基酸在Cu(001)表面吸附时不具有的.
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出版历程
  • 刊出日期:  2000-07-30

天冬氨酸在Cu(001)表面吸附的扫描隧道显微镜研究

  • 北京大学物理系,人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京,100871

摘要: 用扫描隧道显微镜(STM)研究了室温下天冬氨酸在Cu(001)表面的吸附行为.实验发现,在较低的覆盖度下,天冬氨酸分子在Cu(001)表面存在两种吸附状态.从STM数据估算出两种吸附状态下天冬氨酸分子在Cu(001)表面的扩散激活能分别为0.79±0.01?eV,0.88±0.05?eV.随着覆盖度的提高,天冬氨酸分子最终在Cu(001)表面形成一均匀衬度的吸附层,但并不形成有序吸附结构,也不能使台阶发生小面化.天冬氨酸分子的这些吸附特点是迄今研究过的所有氨基酸在Cu(001)表面吸附时不具有的.

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