微波等离子体化学气相沉积法制备C3N4薄膜的结构研究
Hstructural Characterization of C3N4 Thin Films Synthesized by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition
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摘要: 采用微波等离子体化学气相沉积法,用高纯氮气(99.999%)和甲烷(99.9%)作反应气体,在单晶Si(100)基片上沉积C3N4薄膜.利用扫描电子显微镜观察薄膜形貌,表明薄膜由密排的六棱晶棒组成.X射线衍射和透射电子显微镜结构分析说明该薄膜主要由β-C3N4和α-C3N4组成,并且这些结果与α-C3N4相符合较好.由虎克定律近似关系式计算了α-和β-C3N4的傅里叶变换红外光谱和Raman光谱,实验结果支持C-N共价键的存在.
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关键词:
- C3N4 /
- 微波等离子体化学气相沉积法 /
- 薄膜沉积
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