脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究

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刘元富, 韩建民, 张谷令, 王久丽, 陈光良, 李雪明, 冯文然, 范松华, 刘赤子, 杨思泽. 2005: 脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究, 物理学报, 54(3): 1301-1305. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.03.052
引用本文: 刘元富, 韩建民, 张谷令, 王久丽, 陈光良, 李雪明, 冯文然, 范松华, 刘赤子, 杨思泽. 2005: 脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究, 物理学报, 54(3): 1301-1305. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.03.052
LIU Yuan-fu, HAN Jian-min, Zhang Gu-Ling, Wang Jiu-Li, CHEN Guang-Liang, LI Xue-ming, Feng Wen-Ran, FAN Song-Hua, Liu Chi-Zi, Yang Si-Ze. 2005: Study on the microstructure and properties of (Ti, Al)N film deposited by pulsed high energy density plasma, Acta Physica Sinica, 54(3): 1301-1305. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.03.052
Citation: LIU Yuan-fu, HAN Jian-min, Zhang Gu-Ling, Wang Jiu-Li, CHEN Guang-Liang, LI Xue-ming, Feng Wen-Ran, FAN Song-Hua, Liu Chi-Zi, Yang Si-Ze. 2005: Study on the microstructure and properties of (Ti, Al)N film deposited by pulsed high energy density plasma, Acta Physica Sinica, 54(3): 1301-1305. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.03.052

脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究

Study on the microstructure and properties of (Ti, Al)N film deposited by pulsed high energy density plasma

  • 摘要: 利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在45#钢基材表面沉积了高硬度耐腐蚀(Ti,Al)N薄膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、俄歇电子能谱分析了薄膜的显微组织.利用纳米压痕仪测试了薄膜的纳米硬度.测试了薄膜在0.5mol/L H2SO4水溶液中的耐蚀性.测试结果表明:薄膜主要组成相为(Ti,Al)N,同时含有少量的AlN,薄膜的纳米硬度高达26 GPa,薄膜具有良好的耐蚀性,与1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢相比,耐蚀性提高了一个数量级.
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-03-30

脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究

  • 北京交通大学机械与电子控制工程学院,北京,100044;中国科学院物理研究所,北京,100080
  • 北京交通大学机械与电子控制工程学院,北京,100044
  • 中国科学院物理研究所,北京,100080
  • 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083

摘要: 利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在45#钢基材表面沉积了高硬度耐腐蚀(Ti,Al)N薄膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、俄歇电子能谱分析了薄膜的显微组织.利用纳米压痕仪测试了薄膜的纳米硬度.测试了薄膜在0.5mol/L H2SO4水溶液中的耐蚀性.测试结果表明:薄膜主要组成相为(Ti,Al)N,同时含有少量的AlN,薄膜的纳米硬度高达26 GPa,薄膜具有良好的耐蚀性,与1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢相比,耐蚀性提高了一个数量级.

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