微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究

郜小勇; 李瑞; 陈永生; 卢景霄; 刘萍; 冯团辉; 王红娟; 杨仕娥

doi:10.3321/j.issn:1000-3290.2006.01.018

物理学报

微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究

, , , , , , ,

郜小勇, 李瑞, 陈永生, 卢景霄, 刘萍, 冯团辉, 王红娟, 杨仕娥. 2006: 微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究, 物理学报, 55(1): 98-101. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.01.018

引用本文:

Gao Xiao-Yong, Li Rui, Chen Yong-Sheng, Lu Jing-Xiao, Liu Ping, Feng Tuan-Hui, Wang Hong-Juan, Yang Shi-E. 2006: Study of the structural and optical properties of microcrystalline silicon film, Acta Physica Sinica, 55(1): 98-101. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.01.018

Citation:

Gao Xiao-Yong, Li Rui, Chen Yong-Sheng, Lu Jing-Xiao, Liu Ping, Feng Tuan-Hui, Wang Hong-Juan, Yang Shi-E. 2006: Study of the structural and optical properties of microcrystalline silicon film, Acta Physica Sinica, 55(1): 98-101. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.01.018

微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究

郑州大学教育部材料物理重点实验室,郑州,450052

Study of the structural and optical properties of microcrystalline silicon film

摘要: 借助RF-PECVD辅助RTP技术,采用高沉积气压的技术路线制备了优质的微晶硅薄膜,并利用拉曼光谱、反射谱和透射谱分别研究了微晶硅的晶化率和光学性质.实验中发现微晶硅的吸收边出现了相对红移,此相对红移可归结于薄膜晶化率的提高和带尾态密度的降低.
- 微晶硅 /
- 拉曼光谱 /
- 快速热处理 /
- 红移