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改性光刻胶制备纳米压印模版

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陈雷明, 郭艳峰, 郭熹, 唐为华. 2006: 改性光刻胶制备纳米压印模版, 物理学报, 55(12): 6511-6514. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.12.054
引用本文: 陈雷明, 郭艳峰, 郭熹, 唐为华. 2006: 改性光刻胶制备纳米压印模版, 物理学报, 55(12): 6511-6514. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.12.054
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Chen Lei-Ming, Guo Yan-Feng, Guo Xi, Tang Wei-Hua. 2006: Molds for nanoimprinting made by modified photoresist, Acta Physica Sinica, 55(12): 6511-6514. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.12.054
Citation: Chen Lei-Ming, Guo Yan-Feng, Guo Xi, Tang Wei-Hua. 2006: Molds for nanoimprinting made by modified photoresist, Acta Physica Sinica, 55(12): 6511-6514. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.12.054
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改性光刻胶制备纳米压印模版

  • 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京,100080;郑州航空工业管理学院数理系,郑州,450015

  • 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京,100080

  • 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京,100080;浙江理工大学物理系,杭州,310018

Molds for nanoimprinting made by modified photoresist

  • 摘要: 制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件.目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的,但是这些材料比较难以加工,从而限制了纳米压印技术的发展.提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法.利用聚焦离子束对光刻胶的改性作用,控制加工的条件,将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料,从而形成纳米压印模版.这种方法具有速度快、制备简单等特点,是一种新颖的加工方式,扩展了聚焦离子束的加工范围,可用于其他的纳米加工领域.
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出版历程
  • 刊出日期:  2006-12-30

改性光刻胶制备纳米压印模版

  • 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京,100080;郑州航空工业管理学院数理系,郑州,450015
  • 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京,100080
  • 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京,100080;浙江理工大学物理系,杭州,310018

摘要: 制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件.目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的,但是这些材料比较难以加工,从而限制了纳米压印技术的发展.提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法.利用聚焦离子束对光刻胶的改性作用,控制加工的条件,将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料,从而形成纳米压印模版.这种方法具有速度快、制备简单等特点,是一种新颖的加工方式,扩展了聚焦离子束的加工范围,可用于其他的纳米加工领域.

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