基于槽形函数拟合的刻划光栅衍射特性分析方法

上一篇

下一篇

巴音贺希格, 朱洪春. 2007: 基于槽形函数拟合的刻划光栅衍射特性分析方法, 物理学报, 56(7): 3893-3899. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.07.042
引用本文: 巴音贺希格, 朱洪春. 2007: 基于槽形函数拟合的刻划光栅衍射特性分析方法, 物理学报, 56(7): 3893-3899. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.07.042
Bavanheshig, Zhu Hong-Chun. 2007: Analytical method of the diffraction characteristic of ruled grating based on profile fitting function, Acta Physica Sinica, 56(7): 3893-3899. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.07.042
Citation: Bavanheshig, Zhu Hong-Chun. 2007: Analytical method of the diffraction characteristic of ruled grating based on profile fitting function, Acta Physica Sinica, 56(7): 3893-3899. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.07.042

基于槽形函数拟合的刻划光栅衍射特性分析方法

Analytical method of the diffraction characteristic of ruled grating based on profile fitting function

  • 摘要: 作为对光栅刻划工艺的理论指导,提出了一种基于槽形函数拟合的机械刻划光栅衍射特性分析方法,解决了高刻线密度光栅衍射效率测量值与理论值偏差较大的问题.以刻线密度为1200 l/mm的紫外光栅为例,对光栅主截面上的实际槽形纵横坐标扫描取值,进而拟合出槽形函数,经理论计算找到了导致衍射效率偏低的原因,并通过改进工艺,使光栅衍射效率提高了约20%.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  438
  • HTML全文浏览数:  116
  • PDF下载数:  16
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2007-07-30

基于槽形函数拟合的刻划光栅衍射特性分析方法

  • 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130033
  • 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130033;中国科学院研究生院,北京,100049

摘要: 作为对光栅刻划工艺的理论指导,提出了一种基于槽形函数拟合的机械刻划光栅衍射特性分析方法,解决了高刻线密度光栅衍射效率测量值与理论值偏差较大的问题.以刻线密度为1200 l/mm的紫外光栅为例,对光栅主截面上的实际槽形纵横坐标扫描取值,进而拟合出槽形函数,经理论计算找到了导致衍射效率偏低的原因,并通过改进工艺,使光栅衍射效率提高了约20%.

English Abstract

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回