直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较

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夏爱林, 韩宝善. 2008: 直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较, 物理学报, 57(1): 545-549. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.01.088
引用本文: 夏爱林, 韩宝善. 2008: 直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较, 物理学报, 57(1): 545-549. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.01.088
Xia Ai-Lin, Han Bao-Shan. 2008: Comparison of magnetic properties of Fe/Co multilayers prepared by DC magnetron sputtering on glass and Si substrates, Acta Physica Sinica, 57(1): 545-549. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.01.088
Citation: Xia Ai-Lin, Han Bao-Shan. 2008: Comparison of magnetic properties of Fe/Co multilayers prepared by DC magnetron sputtering on glass and Si substrates, Acta Physica Sinica, 57(1): 545-549. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.01.088

直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较

Comparison of magnetic properties of Fe/Co multilayers prepared by DC magnetron sputtering on glass and Si substrates

  • 摘要: 对直流磁控溅射Si和玻璃衬底[Cot/Fe3t]5(t=2,3,4,5 nm)多层膜的磁性能进行了比较.对于t相同但衬底不同的样品,实验发现饱和磁化强度相差很小,但是矫顽力却相差很大.对矫顽力差异的理论分析表明,多层膜的粗糙度和畴壁类型是引起这种差异的主要原因.
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-01-30

直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较

  • 安徽工业大学材料科学与工程学院,马鞍山,243002
  • 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京,100080

摘要: 对直流磁控溅射Si和玻璃衬底[Cot/Fe3t]5(t=2,3,4,5 nm)多层膜的磁性能进行了比较.对于t相同但衬底不同的样品,实验发现饱和磁化强度相差很小,但是矫顽力却相差很大.对矫顽力差异的理论分析表明,多层膜的粗糙度和畴壁类型是引起这种差异的主要原因.

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