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改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响

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杨伟, 李海波, 张清华, 马红菊, 惠浩浩, 刘志超, 马平. 2010: 改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响, 强激光与粒子束, 22(12): 2865-2870. doi: 10.3788/HPLPB20102212.2865
引用本文: 杨伟, 李海波, 张清华, 马红菊, 惠浩浩, 刘志超, 马平. 2010: 改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响, 强激光与粒子束, 22(12): 2865-2870. doi: 10.3788/HPLPB20102212.2865
shu
Yang Wei, Li Haibo, Zhang Qinghua, Ma Hongju, Hui Haohao, Liu Zhichao, Ma Ping. 2010: Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films, High Power Lase and Particle Beams, 22(12): 2865-2870. doi: 10.3788/HPLPB20102212.2865
Citation: Yang Wei, Li Haibo, Zhang Qinghua, Ma Hongju, Hui Haohao, Liu Zhichao, Ma Ping. 2010: Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films, High Power Lase and Particle Beams, 22(12): 2865-2870. doi: 10.3788/HPLPB20102212.2865
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改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响

  • 成都精密光学工程研究中心,成都,610041

Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films

  • 摘要: 分析了采用旋转涂膜法制备溶胶-凝胶SiO2减反膜过程中条纹缺陷产生的机理,利用含氟醇类试剂对减反膜溶胶进行改性,使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善.在光学显微镜下对改性前后的膜层进行了对比和分析,对膜层的表面形貌、表面粗糙度以及透射比等特性进行了表征.结果表明:溶胶改性之后的膜层未出现条纹缺陷,表面粗糙度均方根值从4.55 nm下降到小于1.00 nm,膜层表面质量有了较大提高;改性前后膜层的增透性能相当,在熔石英基片上制备的膜层峰值透射比为99.60%～99.89%,膜层激光损伤阈值为21.0～25.3 J/cm2.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-12-30

改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响

  • 成都精密光学工程研究中心,成都,610041

摘要: 分析了采用旋转涂膜法制备溶胶-凝胶SiO2减反膜过程中条纹缺陷产生的机理,利用含氟醇类试剂对减反膜溶胶进行改性,使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善.在光学显微镜下对改性前后的膜层进行了对比和分析,对膜层的表面形貌、表面粗糙度以及透射比等特性进行了表征.结果表明:溶胶改性之后的膜层未出现条纹缺陷,表面粗糙度均方根值从4.55 nm下降到小于1.00 nm,膜层表面质量有了较大提高;改性前后膜层的增透性能相当,在熔石英基片上制备的膜层峰值透射比为99.60%～99.89%,膜层激光损伤阈值为21.0～25.3 J/cm2.

English Abstract

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