合成温度对Ce掺杂SiC纳米线的制备及场发射性能的影响研究*

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李镇江*, 李伟东. 2013: 合成温度对Ce掺杂SiC纳米线的制备及场发射性能的影响研究*, 物理学报, null(9): 451-455. doi: 10.7498/aps.62.097902
引用本文: 李镇江*, 李伟东. 2013: 合成温度对Ce掺杂SiC纳米线的制备及场发射性能的影响研究*, 物理学报, null(9): 451-455. doi: 10.7498/aps.62.097902
2013: Effect of synthesis temperature on preparation and field emission property of Ce-doped SiC nanowires?, Acta Physica Sinica, null(9): 451-455. doi: 10.7498/aps.62.097902
Citation: 2013: Effect of synthesis temperature on preparation and field emission property of Ce-doped SiC nanowires?, Acta Physica Sinica, null(9): 451-455. doi: 10.7498/aps.62.097902

合成温度对Ce掺杂SiC纳米线的制备及场发射性能的影响研究*

Effect of synthesis temperature on preparation and field emission property of Ce-doped SiC nanowires?

  • 摘要: 本文利用化学气相反应(CVR)法,系统研究了不同温度对Ce掺杂的SiC纳米线及其场发射性能的影响规律.利用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)、X射线衍射(XRD)对所得产物进行了表征,并对其场发射性能进行了测试.结果表明:所得产物为具有立方结构的β-SiC晶体,随着温度的升高,纳米线逐渐变的弯曲, Ce的含量降低,产物的开启电场和阈值电场先升高后降低.当合成温度为1250?C, Ce的含量为0.27 at%,产物的场发射性能最佳,开启电场和阈值电场分别为2.5 V/μm和5.2 V/μm.
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出版历程
  • 刊出日期:  2013-05-15

合成温度对Ce掺杂SiC纳米线的制备及场发射性能的影响研究*

  • 青岛科技大学机电工程学院,青岛 266061

摘要: 本文利用化学气相反应(CVR)法,系统研究了不同温度对Ce掺杂的SiC纳米线及其场发射性能的影响规律.利用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)、X射线衍射(XRD)对所得产物进行了表征,并对其场发射性能进行了测试.结果表明:所得产物为具有立方结构的β-SiC晶体,随着温度的升高,纳米线逐渐变的弯曲, Ce的含量降低,产物的开启电场和阈值电场先升高后降低.当合成温度为1250?C, Ce的含量为0.27 at%,产物的场发射性能最佳,开启电场和阈值电场分别为2.5 V/μm和5.2 V/μm.

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