沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构研究

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刘静, 武瑜, 高勇. 2014: 沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构研究, 物理学报, null(14): 148503. doi: 10.7498/aps.63.148503
引用本文: 刘静, 武瑜, 高勇. 2014: 沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构研究, 物理学报, null(14): 148503. doi: 10.7498/aps.63.148503
Liu Jing, Wu Yu, Gao Yong. 2014: Research on SiGe hetero junction bip olar transistor with a trench-typ e emitter, Acta Physica Sinica, null(14): 148503. doi: 10.7498/aps.63.148503
Citation: Liu Jing, Wu Yu, Gao Yong. 2014: Research on SiGe hetero junction bip olar transistor with a trench-typ e emitter, Acta Physica Sinica, null(14): 148503. doi: 10.7498/aps.63.148503

沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构研究

Research on SiGe hetero junction bip olar transistor with a trench-typ e emitter

  • 摘要: 提出了一种沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构.详细分析了新结构中沟槽型发射极的引入对器件性能的影响,并对其机理进行研究.新型发射极结构通过改变发射极电流路径使电阻分区并联,在不增大结电容的前提下,有效减小发射极电阻,提高器件的频率特性.结果表明,新结构器件的截止频率和最大振荡频率分别增加至100.2 GHz和134.4 GHz,更重要的是沟槽型发射极结构的引入,在提高器件频率特性的同时,不会降低器件的电流增益,也不会增加结电容,很好实现了频率特性、电流增益和结电容之间的折中.对沟槽型发射极进行优化设计,改变侧墙高度和侧墙宽度.沟槽型发射极电阻不受侧墙高度改变的影响,频率性能不变;侧墙宽度增加,频率性能降低.
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出版历程
  • 刊出日期:  2014-07-30

沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构研究

  • 西安理工大学电子工程系,西安,710048

摘要: 提出了一种沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构.详细分析了新结构中沟槽型发射极的引入对器件性能的影响,并对其机理进行研究.新型发射极结构通过改变发射极电流路径使电阻分区并联,在不增大结电容的前提下,有效减小发射极电阻,提高器件的频率特性.结果表明,新结构器件的截止频率和最大振荡频率分别增加至100.2 GHz和134.4 GHz,更重要的是沟槽型发射极结构的引入,在提高器件频率特性的同时,不会降低器件的电流增益,也不会增加结电容,很好实现了频率特性、电流增益和结电容之间的折中.对沟槽型发射极进行优化设计,改变侧墙高度和侧墙宽度.沟槽型发射极电阻不受侧墙高度改变的影响,频率性能不变;侧墙宽度增加,频率性能降低.

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