ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜的相变性能研究?

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田曼曼, 王国祥, 沈祥, 陈益敏, 徐铁峰, 戴世勋, 聂秋华. 2015: ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜的相变性能研究?, 物理学报, null(17): 176802. doi: 10.7498/aps.64.176802
引用本文: 田曼曼, 王国祥, 沈祥, 陈益敏, 徐铁峰, 戴世勋, 聂秋华. 2015: ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜的相变性能研究?, 物理学报, null(17): 176802. doi: 10.7498/aps.64.176802
Tian Man-Man, Wang Guo-Xiang, Shen Xiang, Chen Yi-Min, Xu Tie-Feng, Dai Shi-Xun, Nie Qiu-Hua. 2015: Phase change properties of ZnSb-doped Ge2Sb2Te5 films, Acta Physica Sinica, null(17): 176802. doi: 10.7498/aps.64.176802
Citation: Tian Man-Man, Wang Guo-Xiang, Shen Xiang, Chen Yi-Min, Xu Tie-Feng, Dai Shi-Xun, Nie Qiu-Hua. 2015: Phase change properties of ZnSb-doped Ge2Sb2Te5 films, Acta Physica Sinica, null(17): 176802. doi: 10.7498/aps.64.176802

ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜的相变性能研究?

Phase change properties of ZnSb-doped Ge2Sb2Te5 films

  • 摘要: 本文采用双靶(ZnSb靶和Ge2 Sb2 Te5靶)共溅射制备了系列ZnSb掺杂的Ge2 Sb2 Te5(GST)薄膜.利用X射线衍射、透射电子显微镜、原位等温/变温电阻测量、X射线光电子能谱等测试研究了薄膜样品的非晶形态、电学及原子成键特性.利用等温原位电阻测试表明ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜具有更高的结晶温度.采用Arrhenius公式计算发现ZnSb掺杂的Ge2 Sb2 Te5薄膜的十年数据保持温度均高于传统的Ge2 Sb2 Te5薄膜的88.9?C.薄膜在200,250,300和350?C 下退火后的X射线衍射图谱表明ZnSb的掺杂抑制了Ge2 Sb2 Te5薄膜从fcc态到hex态的转变.通过对薄膜的光电子能谱和透射电镜分析可知Zn, Sb, Te原子之间键进行重组,形成Zn—Sb和Zn—Te键,且构成非晶物质存在于晶体周围.采用相变静态检测仪测试样品的相变行为发现ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜具有更快的结晶速度.特别是(ZnSb)24.3(Ge2Sb2Te5)75.7薄膜,其结晶温度达到250?C,十年数据保持温度达到130.1?C,并且在70 mW激光脉冲功率下晶化时间仅~64 ns,远快于传统Ge2Sb2Te5薄膜的晶化时间~280 ns.以上结果表明(ZnSb)24.3(Ge2Sb2Te5)75.7薄膜是一种热稳定性好且结晶速度快的相变存储材料。
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出版历程
  • 刊出日期:  2015-09-15

ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜的相变性能研究?

  • 宁波大学高等技术研究院,宁波 315211; 宁波大学信息科学与工程学院,宁波 315211
  • 宁波大学信息科学与工程学院,宁波,315211
  • 宁波大学高等技术研究院,宁波,315211

摘要: 本文采用双靶(ZnSb靶和Ge2 Sb2 Te5靶)共溅射制备了系列ZnSb掺杂的Ge2 Sb2 Te5(GST)薄膜.利用X射线衍射、透射电子显微镜、原位等温/变温电阻测量、X射线光电子能谱等测试研究了薄膜样品的非晶形态、电学及原子成键特性.利用等温原位电阻测试表明ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜具有更高的结晶温度.采用Arrhenius公式计算发现ZnSb掺杂的Ge2 Sb2 Te5薄膜的十年数据保持温度均高于传统的Ge2 Sb2 Te5薄膜的88.9?C.薄膜在200,250,300和350?C 下退火后的X射线衍射图谱表明ZnSb的掺杂抑制了Ge2 Sb2 Te5薄膜从fcc态到hex态的转变.通过对薄膜的光电子能谱和透射电镜分析可知Zn, Sb, Te原子之间键进行重组,形成Zn—Sb和Zn—Te键,且构成非晶物质存在于晶体周围.采用相变静态检测仪测试样品的相变行为发现ZnSb掺杂的Ge2Sb2Te5薄膜具有更快的结晶速度.特别是(ZnSb)24.3(Ge2Sb2Te5)75.7薄膜,其结晶温度达到250?C,十年数据保持温度达到130.1?C,并且在70 mW激光脉冲功率下晶化时间仅~64 ns,远快于传统Ge2Sb2Te5薄膜的晶化时间~280 ns.以上结果表明(ZnSb)24.3(Ge2Sb2Te5)75.7薄膜是一种热稳定性好且结晶速度快的相变存储材料。

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