二次电子分布函数对绝缘壁面稳态鞘层特性的影响?

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卿绍伟, 李梅, 李梦杰, 周芮, 王磊. 2016: 二次电子分布函数对绝缘壁面稳态鞘层特性的影响?, 物理学报, 65(3): 035202. doi: 10.7498/aps.65.035202
引用本文: 卿绍伟, 李梅, 李梦杰, 周芮, 王磊. 2016: 二次电子分布函数对绝缘壁面稳态鞘层特性的影响?, 物理学报, 65(3): 035202. doi: 10.7498/aps.65.035202
Qing Shao-Wei, Li Mei, Li Meng-Jie, Zhou Rui, Wang Lei. 2016: Effect of wall secondary electron distribution function on the characteristics of stable sheath near a dielectric wall, Acta Physica Sinica, 65(3): 035202. doi: 10.7498/aps.65.035202
Citation: Qing Shao-Wei, Li Mei, Li Meng-Jie, Zhou Rui, Wang Lei. 2016: Effect of wall secondary electron distribution function on the characteristics of stable sheath near a dielectric wall, Acta Physica Sinica, 65(3): 035202. doi: 10.7498/aps.65.035202

二次电子分布函数对绝缘壁面稳态鞘层特性的影响?

Effect of wall secondary electron distribution function on the characteristics of stable sheath near a dielectric wall

  • 摘要: 由于缺乏详细的理论计算和实验结果,在研究绝缘壁面稳态流体鞘层特性时,通常假设壁面出射的总二次电子服从单能分布(>0)、半Maxwellian分布等。在单能电子轰击壁面的详细二次电子发射模型基础上,采用Monte Carlo方法统计发现:当入射电子服从Maxwellian分布时,绝缘壁面发射的总二次电子服从三温Maxwellian分布。进而,采用一维稳态流体鞘层模型进行对比研究,结果表明:二次电子分布函数对鞘边离子能量、壁面电势、电势及电子/离子密度分布等均具有明显影响;总二次电子服从三温Maxwellian分布时,临界空间电荷饱和鞘层无解,表明随着壁面总二次电子发射系数的增加,鞘层直接从经典鞘层结构过渡到反鞘层结构。
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  • 刊出日期:  2016-02-15

二次电子分布函数对绝缘壁面稳态鞘层特性的影响?

  • 重庆大学,动力工程学院,重庆 400044

摘要: 由于缺乏详细的理论计算和实验结果,在研究绝缘壁面稳态流体鞘层特性时,通常假设壁面出射的总二次电子服从单能分布(>0)、半Maxwellian分布等。在单能电子轰击壁面的详细二次电子发射模型基础上,采用Monte Carlo方法统计发现:当入射电子服从Maxwellian分布时,绝缘壁面发射的总二次电子服从三温Maxwellian分布。进而,采用一维稳态流体鞘层模型进行对比研究,结果表明:二次电子分布函数对鞘边离子能量、壁面电势、电势及电子/离子密度分布等均具有明显影响;总二次电子服从三温Maxwellian分布时,临界空间电荷饱和鞘层无解,表明随着壁面总二次电子发射系数的增加,鞘层直接从经典鞘层结构过渡到反鞘层结构。

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