单层SbAs和BiSb的表面修饰调控?

上一篇

下一篇

袁俊辉, 谢晴兴, 余念念, 王嘉赋. 2016: 单层SbAs和BiSb的表面修饰调控?, 物理学报, 65(21): 217101. doi: 10.7498/aps.65.217101
引用本文: 袁俊辉, 谢晴兴, 余念念, 王嘉赋. 2016: 单层SbAs和BiSb的表面修饰调控?, 物理学报, 65(21): 217101. doi: 10.7498/aps.65.217101
Yuan Jun-Hui, Xie Qing-Xing, Yu Nian-Nian, Wang Jia-Fu. 2016: Effects of surface regulation on monolayers SbAs and BiSb, Acta Physica Sinica, 65(21): 217101. doi: 10.7498/aps.65.217101
Citation: Yuan Jun-Hui, Xie Qing-Xing, Yu Nian-Nian, Wang Jia-Fu. 2016: Effects of surface regulation on monolayers SbAs and BiSb, Acta Physica Sinica, 65(21): 217101. doi: 10.7498/aps.65.217101

单层SbAs和BiSb的表面修饰调控?

Effects of surface regulation on monolayers SbAs and BiSb

  • 摘要: 基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了V族二维层状材料SbAs和BiSb在全氢化和全氟化后体系的晶体结构、稳定性和电子结构。计算结果表明,全氢化后SbAs和BiSb由buckled结构转变为准平面结构,而全氟化后则转变为low-buckled结构。同时,本征、全氢化和全氟化的SbAs和BiSb均具有很好的稳定性,具备实验合成的可能性。电子结构的分析表明,全氢化和全氟化后SbAs和BiSb均由宽带隙半导体转变为窄带隙的直隙半导体,且其能带结构仍具有很好的线性色散。通过对准平面和low-buckled结构SbAs和BiSb电子结构的进一步分析,揭示了全氢化和全氟化后体系能带变化的原因。在h-BN衬底上的计算结果显示,由于两者间的弱耦合作用,使得全氢化和全氟化SbAs的直隙半导体特征得以保留,表明其在未来光电子设备等领域中具有广泛的应用前景。
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  240
  • HTML全文浏览数:  80
  • PDF下载数:  0
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2016-11-15

单层SbAs和BiSb的表面修饰调控?

  • 武汉理工大学理学院,武汉,430070

摘要: 基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了V族二维层状材料SbAs和BiSb在全氢化和全氟化后体系的晶体结构、稳定性和电子结构。计算结果表明,全氢化后SbAs和BiSb由buckled结构转变为准平面结构,而全氟化后则转变为low-buckled结构。同时,本征、全氢化和全氟化的SbAs和BiSb均具有很好的稳定性,具备实验合成的可能性。电子结构的分析表明,全氢化和全氟化后SbAs和BiSb均由宽带隙半导体转变为窄带隙的直隙半导体,且其能带结构仍具有很好的线性色散。通过对准平面和low-buckled结构SbAs和BiSb电子结构的进一步分析,揭示了全氢化和全氟化后体系能带变化的原因。在h-BN衬底上的计算结果显示,由于两者间的弱耦合作用,使得全氢化和全氟化SbAs的直隙半导体特征得以保留,表明其在未来光电子设备等领域中具有广泛的应用前景。

English Abstract

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回