GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒对发光二极管内量子效率的影响

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时强, 李路平, 张勇辉, 张紫辉, 毕文刚. 2017: GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒对发光二极管内量子效率的影响, 物理学报, 66(15): 313-321. doi: 10.7498/aps.66.158501
引用本文: 时强, 李路平, 张勇辉, 张紫辉, 毕文刚. 2017: GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒对发光二极管内量子效率的影响, 物理学报, 66(15): 313-321. doi: 10.7498/aps.66.158501
Shi Qiang, Li Lu-Ping, Zhang Yong-Hui, Zhang Zi-Hui, Bi Wen-Gang. 2017: Identifying the influence of GaN/InxGa1-xN type last quantum barrier on internal quantum efficiency for Ⅲ-nitride based light-emitting diode?, Acta Physica Sinica, 66(15): 313-321. doi: 10.7498/aps.66.158501
Citation: Shi Qiang, Li Lu-Ping, Zhang Yong-Hui, Zhang Zi-Hui, Bi Wen-Gang. 2017: Identifying the influence of GaN/InxGa1-xN type last quantum barrier on internal quantum efficiency for Ⅲ-nitride based light-emitting diode?, Acta Physica Sinica, 66(15): 313-321. doi: 10.7498/aps.66.158501

GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒对发光二极管内量子效率的影响

Identifying the influence of GaN/InxGa1-xN type last quantum barrier on internal quantum efficiency for Ⅲ-nitride based light-emitting diode?

  • 摘要: GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒结构能有效提高发光二极管(LED)器件内量子效率,缓解LED效率随输入电流增大而衰减的问题.本文综述了该结构及其结构变化——In组分梯度递增以及渐变、GaN/InxGa1-xN界面极化率改变等对改善LED器件性能的影响及优势,归纳总结了不同结构的GaN/InxGa1-xN型最后一个量子垒的工作机理,阐明极化反转是该结构提高LED性能的根本原因.在综述该结构发展的基础之上,通过APSYS仿真计算,进一步探索和深入分析了该结构中InxGa1-xN层的In组分及其厚度变化对LED内量子效率的影响.结果表明:In组分的增加有助于在GaN/InxGa1-xN界面产生更多的极化负电荷,增加GaN以及电子阻挡层处导带势垒高度,减少电子泄漏,从而提高LED的内量子效率;但GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒中InxGa1-xN及GaN层厚度的变化由于会同时引起势垒高度和隧穿效应的改变,因而InxGa1-xN和GaN层的厚度存在一个最佳比值以实现最大化的减小漏电子,提高内量子效率.
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出版历程
  • 刊出日期:  2017-08-15

GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒对发光二极管内量子效率的影响

  • 河北工业大学电子信息工程学院, 天津 300401;天津市电子材料与器件重点实验室, 天津 300401

摘要: GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒结构能有效提高发光二极管(LED)器件内量子效率,缓解LED效率随输入电流增大而衰减的问题.本文综述了该结构及其结构变化——In组分梯度递增以及渐变、GaN/InxGa1-xN界面极化率改变等对改善LED器件性能的影响及优势,归纳总结了不同结构的GaN/InxGa1-xN型最后一个量子垒的工作机理,阐明极化反转是该结构提高LED性能的根本原因.在综述该结构发展的基础之上,通过APSYS仿真计算,进一步探索和深入分析了该结构中InxGa1-xN层的In组分及其厚度变化对LED内量子效率的影响.结果表明:In组分的增加有助于在GaN/InxGa1-xN界面产生更多的极化负电荷,增加GaN以及电子阻挡层处导带势垒高度,减少电子泄漏,从而提高LED的内量子效率;但GaN/InxGa1-xN型最后一个量子势垒中InxGa1-xN及GaN层厚度的变化由于会同时引起势垒高度和隧穿效应的改变,因而InxGa1-xN和GaN层的厚度存在一个最佳比值以实现最大化的减小漏电子,提高内量子效率.

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