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背景气体对金属原子二维平面蒸发过程的影响

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卢肖勇, 张小章. 2018: 背景气体对金属原子二维平面蒸发过程的影响, 物理学报, 67(15): 67-75. doi: 10.7498/aps.67.20180066
引用本文: 卢肖勇, 张小章. 2018: 背景气体对金属原子二维平面蒸发过程的影响, 物理学报, 67(15): 67-75. doi: 10.7498/aps.67.20180066
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Lu Xiao-Yong, Zhang Xiao-Zhang. 2018: Influence of background gas on two-dimensional metal evaporation, Acta Physica Sinica, 67(15): 67-75. doi: 10.7498/aps.67.20180066
Citation: Lu Xiao-Yong, Zhang Xiao-Zhang. 2018: Influence of background gas on two-dimensional metal evaporation, Acta Physica Sinica, 67(15): 67-75. doi: 10.7498/aps.67.20180066
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背景气体对金属原子二维平面蒸发过程的影响

  • 清华大学工程物理系,北京,100084

Influence of background gas on two-dimensional metal evaporation

  • 摘要: 在原子蒸气法激光分离同位素中,金属原子蒸气宏观物理性质的空间分布会直接影响到分离过程的电离率和原料利用率.本文从分离过程的实际需求出发,建立了双组分气体的Bhatnagar-Gross-Krook模型方程组,并利用数值计算方法对方程进行求解,研究了背景气体对二维平面蒸发过程中原子蒸气宏观物理性质和蒸发速率的影响.研究结果表明:随着背景气体密度的增加,远离蒸发源位置处的金属原子蒸气密度增大,速度减小,温度升高,而近蒸发源位置处原子蒸气的性质则几乎不受影响,因而蒸发速率基本上不随背景气体密度发生变化.另外,随着尾料板温度的升高和对原子蒸气吸收率的增加,金属原子蒸气宏观物理性质受背景气体的影响逐渐下降.理论计算的结果对于分离装置的真空设计和光斑分布设计有较为重要的参考意义.
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出版历程
  • 刊出日期:  2018-08-15

背景气体对金属原子二维平面蒸发过程的影响

  • 清华大学工程物理系,北京,100084

摘要: 在原子蒸气法激光分离同位素中,金属原子蒸气宏观物理性质的空间分布会直接影响到分离过程的电离率和原料利用率.本文从分离过程的实际需求出发,建立了双组分气体的Bhatnagar-Gross-Krook模型方程组,并利用数值计算方法对方程进行求解,研究了背景气体对二维平面蒸发过程中原子蒸气宏观物理性质和蒸发速率的影响.研究结果表明:随着背景气体密度的增加,远离蒸发源位置处的金属原子蒸气密度增大,速度减小,温度升高,而近蒸发源位置处原子蒸气的性质则几乎不受影响,因而蒸发速率基本上不随背景气体密度发生变化.另外,随着尾料板温度的升高和对原子蒸气吸收率的增加,金属原子蒸气宏观物理性质受背景气体的影响逐渐下降.理论计算的结果对于分离装置的真空设计和光斑分布设计有较为重要的参考意义.

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