纳米光刻技术的现状和未来

物理

纳米光刻技术的现状和未来

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陈献忠, 姚汉民, 陈旭南, 李展, 罗先刚. 2002: 纳米光刻技术的现状和未来, 物理, 31(11): 691-695. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2002.11.001

引用本文:

陈献忠, 姚汉民, 陈旭南, 李展, 罗先刚. 2002: 纳米光刻技术的现状和未来, 物理, 31(11): 691-695. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2002.11.001

2002: THE PRESENT AND FUTURE OF NANOLITHOGRAPHY, Physics, 31(11): 691-695. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2002.11.001

Citation:

2002: THE PRESENT AND FUTURE OF NANOLITHOGRAPHY, Physics, 31(11): 691-695. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2002.11.001

THE PRESENT AND FUTURE OF NANOLITHOGRAPHY

摘要: 纳米技术是21世纪信息科学的一项关键技术，纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分.纳米光刻技术是制作纳米结构的基础，具有重要的应用前景.文章对光学光刻技术进行了概述，介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题，最后讨论了纳米光刻技术的应用前景.
- 纳米技术 /
- 纳米光刻 /
- 纳米结构制作 /
- 应用前景