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单次分子镀法制备部分La系及238U靶的实验研究

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白静, 吴晓蕾, 林茂盛, 范芳丽, 丁华杰, 雷富安, 李小飞, 秦芝, 郭俊盛. 2010: 单次分子镀法制备部分La系及238U靶的实验研究, 原子核物理评论, 27(2): 187-191.
引用本文: 白静, 吴晓蕾, 林茂盛, 范芳丽, 丁华杰, 雷富安, 李小飞, 秦芝, 郭俊盛. 2010: 单次分子镀法制备部分La系及238U靶的实验研究, 原子核物理评论, 27(2): 187-191.
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BAI Jing, WU Xiao-lei, LIN Mao-sheng, FAN Fang-li, DING Hua-jie, LEI Fu-an, LI Xiao-fei, QIN Zhi, GUO Jun-sheng. 2010: Experimental Study on Preparation of Some Lanthanide and 238U Targets by Using Single-cycle Molecular Plating Method, Nuclear Physics Review, 27(2): 187-191.
Citation: BAI Jing, WU Xiao-lei, LIN Mao-sheng, FAN Fang-li, DING Hua-jie, LEI Fu-an, LI Xiao-fei, QIN Zhi, GUO Jun-sheng. 2010: Experimental Study on Preparation of Some Lanthanide and 238U Targets by Using Single-cycle Molecular Plating Method, Nuclear Physics Review, 27(2): 187-191.
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单次分子镀法制备部分La系及238U靶的实验研究

  • 中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州730000;中国科学院研究生院,北京100049

  • 中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州730000

Experimental Study on Preparation of Some Lanthanide and 238U Targets by Using Single-cycle Molecular Plating Method

  • 摘要: 采用单次分子镀方法研究了异丙醇-硝酸体系中电流密度、分子镀持续时间及两极间距离对镀层性能和电沉积效率的影响,确定了制备La,Sm,Eu,Gd,Tb靶及238U靶的最佳工艺条件.因制备的靶不同,电流密度一般介于2-8 mA/cm2之间,两极间最优距离为3 cm,分子镀1 h,用分光光度法测定各靶的沉积效率均高于85%.利用扫描电子显微镜(SEM)对部分靶的表面形貌分析后发现靶面结构均匀致密.目前制得的Gd靶和Tb靶已用于中国科学院近代物理研究所加速器SFC低能核化学终端上,利用19F束流轰击,分别产生了Ta和W的短寿命同位素,从而成功完成了Db(Z=105)及Sg(Z=106)的模型试验.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-06-20

单次分子镀法制备部分La系及238U靶的实验研究

  • 中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州730000;中国科学院研究生院,北京100049
  • 中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州730000

摘要: 采用单次分子镀方法研究了异丙醇-硝酸体系中电流密度、分子镀持续时间及两极间距离对镀层性能和电沉积效率的影响,确定了制备La,Sm,Eu,Gd,Tb靶及238U靶的最佳工艺条件.因制备的靶不同,电流密度一般介于2-8 mA/cm2之间,两极间最优距离为3 cm,分子镀1 h,用分光光度法测定各靶的沉积效率均高于85%.利用扫描电子显微镜(SEM)对部分靶的表面形貌分析后发现靶面结构均匀致密.目前制得的Gd靶和Tb靶已用于中国科学院近代物理研究所加速器SFC低能核化学终端上,利用19F束流轰击,分别产生了Ta和W的短寿命同位素,从而成功完成了Db(Z=105)及Sg(Z=106)的模型试验.

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