单次分子镀法制备Sm和Eu厚靶

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张丽娜, 秦芝, 吴晓蕾, 丁华杰, 林茂盛, 白静, 范芳丽, 马健, 雷富安, 郭俊盛. 2008: 单次分子镀法制备Sm和Eu厚靶, 原子核物理评论, 25(1): 56-60.
引用本文: 张丽娜, 秦芝, 吴晓蕾, 丁华杰, 林茂盛, 白静, 范芳丽, 马健, 雷富安, 郭俊盛. 2008: 单次分子镀法制备Sm和Eu厚靶, 原子核物理评论, 25(1): 56-60.
ZHANG Li-na, QIN Zhi, WU Xiao-lei, DING Hua-jie, LIN Mao-sheng, BAI Jing, FAN Fang-li, MA Jian, LEI Fuan, GUO Jun-sheng. 2008: Preparation of Sm and Eu Thick Targets by Using One Cycle Molecular Plating Method, Nuclear Physics Review, 25(1): 56-60.
Citation: ZHANG Li-na, QIN Zhi, WU Xiao-lei, DING Hua-jie, LIN Mao-sheng, BAI Jing, FAN Fang-li, MA Jian, LEI Fuan, GUO Jun-sheng. 2008: Preparation of Sm and Eu Thick Targets by Using One Cycle Molecular Plating Method, Nuclear Physics Review, 25(1): 56-60.

单次分子镀法制备Sm和Eu厚靶

Preparation of Sm and Eu Thick Targets by Using One Cycle Molecular Plating Method

  • 摘要: 研究了在异丙醇-硝酸体系中单次分子镀流程制备Sm和Eu厚靶的实验条件.确定了在20 μm铍箔上进行Sm和Eu分子镀实验的最佳工艺条件为:两极间距3 cm,电流密度3.8 mA/cm2,分子镀过程持续1 h.用分光光度法测定了分子镀的沉积效率均高于95%,所制备Sm和Eu靶膜的厚度分别在1.6和1.5 mg/cm2.
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-03-20

单次分子镀法制备Sm和Eu厚靶

  • 中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州,730000

摘要: 研究了在异丙醇-硝酸体系中单次分子镀流程制备Sm和Eu厚靶的实验条件.确定了在20 μm铍箔上进行Sm和Eu分子镀实验的最佳工艺条件为:两极间距3 cm,电流密度3.8 mA/cm2,分子镀过程持续1 h.用分光光度法测定了分子镀的沉积效率均高于95%,所制备Sm和Eu靶膜的厚度分别在1.6和1.5 mg/cm2.

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