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电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中15种痕量杂质元素

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王长华, 李继东, 潘元海. 2011: 电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中15种痕量杂质元素, 质谱学报, 32(4): 216-221.
引用本文: 王长华, 李继东, 潘元海. 2011: 电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中15种痕量杂质元素, 质谱学报, 32(4): 216-221.
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WANG Chang-hua, LI Ji-dong, PAN Yuan-hai. 2011: Determination of 15 Trace-Impurities in High Purity Tungsten by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry, Journal of Chinese Mass Spectrometry Society, 32(4): 216-221.
Citation: WANG Chang-hua, LI Ji-dong, PAN Yuan-hai. 2011: Determination of 15 Trace-Impurities in High Purity Tungsten by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry, Journal of Chinese Mass Spectrometry Society, 32(4): 216-221.
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电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中15种痕量杂质元素

  • 北京有色金属研究总院,北京,100088

Determination of 15 Trace-Impurities in High Purity Tungsten by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

  • 摘要: 采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法测定高纯钨中杂质元素含量；应用H2反应池技术消除复合离子对K、Ca、Fe和Si等元素的干扰；考察了溶液酸度、基体效应等条件对测定结果的影响；以内标校正法补偿基体效应,优化选择了测定同位素和内标元素,最终建立高纯钨中15种杂质元素含量的测定方法.方法测定下限介于0.12～0.50 μg/g,加标回收率在96.1％～110.6％之间,相对标准偏差小于8％.采用该方法测定高纯钨条和钨粉两种实际样品,可以满足4N～5N高纯钨的测定.
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出版历程
  • 刊出日期:  2011-08-28

电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中15种痕量杂质元素

  • 北京有色金属研究总院,北京,100088

摘要: 采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法测定高纯钨中杂质元素含量；应用H2反应池技术消除复合离子对K、Ca、Fe和Si等元素的干扰；考察了溶液酸度、基体效应等条件对测定结果的影响；以内标校正法补偿基体效应,优化选择了测定同位素和内标元素,最终建立高纯钨中15种杂质元素含量的测定方法.方法测定下限介于0.12～0.50 μg/g,加标回收率在96.1％～110.6％之间,相对标准偏差小于8％.采用该方法测定高纯钨条和钨粉两种实际样品,可以满足4N～5N高纯钨的测定.

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