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磁流变加工的连续相位板波前及光强特性

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颜浩, 杨春林, 侯晶, 唐才学, 温圣林, 张远航. 2014: 磁流变加工的连续相位板波前及光强特性, 强激光与粒子束, 26(9): 199-204. doi: 10.11884/HPLPB201426.092012
引用本文: 颜浩, 杨春林, 侯晶, 唐才学, 温圣林, 张远航. 2014: 磁流变加工的连续相位板波前及光强特性, 强激光与粒子束, 26(9): 199-204. doi: 10.11884/HPLPB201426.092012
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Yan Hao, Yang Chunlin, Hou Jing, Tang Caixue, Wen Shenglin, Zhang Yuanhang. 2014: Wavefront and light intensity characteristics of continous phase plated fabricated by magnetorheological finishing, High Power Lase and Particle Beams, 26(9): 199-204. doi: 10.11884/HPLPB201426.092012
Citation: Yan Hao, Yang Chunlin, Hou Jing, Tang Caixue, Wen Shenglin, Zhang Yuanhang. 2014: Wavefront and light intensity characteristics of continous phase plated fabricated by magnetorheological finishing, High Power Lase and Particle Beams, 26(9): 199-204. doi: 10.11884/HPLPB201426.092012
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磁流变加工的连续相位板波前及光强特性

  • 成都精密光学工程研究中心,成都,610041

Wavefront and light intensity characteristics of continous phase plated fabricated by magnetorheological finishing

  • 摘要: 对采用磁流变抛光(MRF)工艺加工的大口径连续相位板(CPP)的波前及其光强控制特性进行了分析,对由不同的加工参数(走刀间距和走刀偏置)所加工的三组CPP进行了比较,并分析了MRF加工所引入的中频误差对CPP波前和光强特性的影响.结果表明,走刀间距为2 mm、对应走刀偏置范围为0.1～0.3mm时所加工CPP的波前及其光强控制能力较差,远场有一定程度的旁瓣产生;走刀间距为2 mm、偏置范围为0.4～0.5 mm时所加工CPP和走刀间距为1 mm、偏置范围为0.1～0.3 mm时所加工CPP相比较,迭代加工效率提高,CPP波前中频误差得到一定的改善.进一步分析表明MRF所引入的中频误差对CPP波前梯度及旁瓣影响较大.
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出版历程
  • 刊出日期:  2014-09-30

磁流变加工的连续相位板波前及光强特性

  • 成都精密光学工程研究中心,成都,610041

摘要: 对采用磁流变抛光(MRF)工艺加工的大口径连续相位板(CPP)的波前及其光强控制特性进行了分析,对由不同的加工参数(走刀间距和走刀偏置)所加工的三组CPP进行了比较,并分析了MRF加工所引入的中频误差对CPP波前和光强特性的影响.结果表明,走刀间距为2 mm、对应走刀偏置范围为0.1～0.3mm时所加工CPP的波前及其光强控制能力较差,远场有一定程度的旁瓣产生;走刀间距为2 mm、偏置范围为0.4～0.5 mm时所加工CPP和走刀间距为1 mm、偏置范围为0.1～0.3 mm时所加工CPP相比较,迭代加工效率提高,CPP波前中频误差得到一定的改善.进一步分析表明MRF所引入的中频误差对CPP波前梯度及旁瓣影响较大.

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