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光阴极直流高压电子枪工程设计

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王汉斌, 杨兴繁, 潘清, 黎明. 2013: 光阴极直流高压电子枪工程设计, 强激光与粒子束, 25(z1): 145-148.
引用本文: 王汉斌, 杨兴繁, 潘清, 黎明. 2013: 光阴极直流高压电子枪工程设计, 强激光与粒子束, 25(z1): 145-148.
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Wang Hanbin, Yang Xingfan, Pan Qing, Li Ming. 2013: Engineering design of photoemission DC high voltage electron gun, High Power Lase and Particle Beams, 25(z1): 145-148.
Citation: Wang Hanbin, Yang Xingfan, Pan Qing, Li Ming. 2013: Engineering design of photoemission DC high voltage electron gun, High Power Lase and Particle Beams, 25(z1): 145-148.
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光阴极直流高压电子枪工程设计

  • 中国工程物理研究院应用电子学研究所,四川绵阳,621900

Engineering design of photoemission DC high voltage electron gun

  • 摘要: 根据光阴极直流高压电子枪超高真空和高电压工作特点,采取技术措施,金属腔体采用大通径、短管设计,利用非蒸散型吸气剂(NEG)泵的抽气,封闭储气空间预置排气通道,电极系统增加中间电极,降低系统峰值场强,采用均压环非均匀分布,在绝缘子内表面获得更加均匀的场分布.结果表明,腔体真空度已小于5×10-9 Pa,电压可升至300 kV.
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出版历程
  • 刊出日期:  2013-12-30

光阴极直流高压电子枪工程设计

  • 中国工程物理研究院应用电子学研究所,四川绵阳,621900

摘要: 根据光阴极直流高压电子枪超高真空和高电压工作特点,采取技术措施,金属腔体采用大通径、短管设计,利用非蒸散型吸气剂(NEG)泵的抽气,封闭储气空间预置排气通道,电极系统增加中间电极,降低系统峰值场强,采用均压环非均匀分布,在绝缘子内表面获得更加均匀的场分布.结果表明,腔体真空度已小于5×10-9 Pa,电压可升至300 kV.

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