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缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响

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谭天亚, 吴炜, 郭永新, 邵建达, 范正修. 2009: 缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响, 强激光与粒子束, 21(9): 1343-1346.
引用本文: 谭天亚, 吴炜, 郭永新, 邵建达, 范正修. 2009: 缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响, 强激光与粒子束, 21(9): 1343-1346.
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Tan Tianya, Wu Wei, Guo Yongxin, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. 2009: Influence of buffer layer on adhesion of 1 064 nm, 532 nm frequency-doubled antireflection coating to LBO crystal, High Power Lase and Particle Beams, 21(9): 1343-1346.
Citation: Tan Tianya, Wu Wei, Guo Yongxin, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. 2009: Influence of buffer layer on adhesion of 1 064 nm, 532 nm frequency-doubled antireflection coating to LBO crystal, High Power Lase and Particle Beams, 21(9): 1343-1346.
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缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响

  • 辽宁大学,物理学院,沈阳,110036;沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室,沈阳,110036

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,光学薄膜技术研发中心,上海,201800

Influence of buffer layer on adhesion of 1 064 nm, 532 nm frequency-doubled antireflection coating to LBO crystal

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出版历程
  • 刊出日期:  2009-09-30

缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响

  • 辽宁大学,物理学院,沈阳,110036;沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室,沈阳,110036
  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,光学薄膜技术研发中心,上海,201800

摘要: 着力增强机制进行了分析.薄膜的抗激光损伤性能分析表明,SiO2缓冲层也有助于改进薄膜的激光损伤阈值.

English Abstract

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