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脉冲激光晶化非晶硅薄膜的有限差分模拟

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袁志军, 楼祺洪, 周军, 董景星, 魏运荣, 王之江. 2008: 脉冲激光晶化非晶硅薄膜的有限差分模拟, 强激光与粒子束, 20(7): 1100-1104.
引用本文: 袁志军, 楼祺洪, 周军, 董景星, 魏运荣, 王之江. 2008: 脉冲激光晶化非晶硅薄膜的有限差分模拟, 强激光与粒子束, 20(7): 1100-1104.
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YUAN Zhi-jun, LOU Qi-hong, ZHOU Jun, DONG Jing-xing, WEI Yun-rong, WANG Zhi-jiang. 2008: Finite difference simulation of pulsed laser induced crvstallization 0f amorphous silicon thin film, High Power Lase and Particle Beams, 20(7): 1100-1104.
Citation: YUAN Zhi-jun, LOU Qi-hong, ZHOU Jun, DONG Jing-xing, WEI Yun-rong, WANG Zhi-jiang. 2008: Finite difference simulation of pulsed laser induced crvstallization 0f amorphous silicon thin film, High Power Lase and Particle Beams, 20(7): 1100-1104.
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脉冲激光晶化非晶硅薄膜的有限差分模拟

  • 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

Finite difference simulation of pulsed laser induced crvstallization 0f amorphous silicon thin film

  • 摘要: 根据热传导原理,建立了脉冲激光晶化非晶硅薄膜的理论模型.运用有限差分方法研究了不同激光波长、能量密度等因素对薄膜温度变化及相变过程的影响.计算了不同波长激光器对厚度500 nm非晶硅晶化的阈值能量密度.结果发现,准分子晶化的阈值能量密度最低,但是在同样的能量密度下,熔融深度却不及使用更长波长的激光器.计算并分析了升高衬底温度对结晶速度和晶粒尺寸的影响,模拟结果较好地验证了实验结论和规律.
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-07-30

脉冲激光晶化非晶硅薄膜的有限差分模拟

  • 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

摘要: 根据热传导原理,建立了脉冲激光晶化非晶硅薄膜的理论模型.运用有限差分方法研究了不同激光波长、能量密度等因素对薄膜温度变化及相变过程的影响.计算了不同波长激光器对厚度500 nm非晶硅晶化的阈值能量密度.结果发现,准分子晶化的阈值能量密度最低,但是在同样的能量密度下,熔融深度却不及使用更长波长的激光器.计算并分析了升高衬底温度对结晶速度和晶粒尺寸的影响,模拟结果较好地验证了实验结论和规律.

English Abstract

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