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膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响

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林华平, 吴卫东, 何智兵, 许华, 李俊, 王锋, 李盛印, 张宝玲, 宋萍, 江玲, 谌家军, 唐永建. 2008: 膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响, 强激光与粒子束, 20(3): 413-418.
引用本文: 林华平, 吴卫东, 何智兵, 许华, 李俊, 王锋, 李盛印, 张宝玲, 宋萍, 江玲, 谌家军, 唐永建. 2008: 膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响, 强激光与粒子束, 20(3): 413-418.
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LIN Hua-ping, WU Wei-dong, HE Zhi-bing, XU Hua, LI Jun, WANG Feng, LI Sheng-yin, ZHANG Bao-ling, SONG Ping, JIANG Ling, CHEN Jia-jun, TANG Yong-jian. 2008: Effects of thickness on microstructure and properties of Niobium films deposited by DC magnetron sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 20(3): 413-418.
Citation: LIN Hua-ping, WU Wei-dong, HE Zhi-bing, XU Hua, LI Jun, WANG Feng, LI Sheng-yin, ZHANG Bao-ling, SONG Ping, JIANG Ling, CHEN Jia-jun, TANG Yong-jian. 2008: Effects of thickness on microstructure and properties of Niobium films deposited by DC magnetron sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 20(3): 413-418.
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膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响

  • 西华师范大学,物理与电子信息学院,四川,南充,637002;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900

  • 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900

  • 西华师范大学,物理与电子信息学院,四川,南充,637002;四川大学,原子分子物理研究所,成都,610065

  • 西华师范大学,物理与电子信息学院,四川,南充,637002

Effects of thickness on microstructure and properties of Niobium films deposited by DC magnetron sputtering

  • 摘要: 采用直流磁控溅射方法制备膜厚为50, 100, 200, 400, 600 nm的Nb薄膜,对薄膜的沉积速率、表面形貌、晶体结构进行了研究,并对其应力和择优取向进行了详细的分析.原子力显微镜图像显示Nb膜表面光滑、致密,均方根粗糙度达到0.1 nm量级.X射线小角衍射给出了薄膜的晶格结构、晶粒尺寸和应力情况.分析表明薄膜为多晶体心立方结构(bcc),在(110)晶面方向存在明显的择优取向,且随着薄膜厚度增大而增强.Nb膜应力先随薄膜厚度增大而增大,在200 nm时达到最大值(为1.015 1 GPa),后随薄膜厚度的增大有所减小.
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-03-30

膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响

  • 西华师范大学,物理与电子信息学院,四川,南充,637002;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
  • 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
  • 西华师范大学,物理与电子信息学院,四川,南充,637002;四川大学,原子分子物理研究所,成都,610065
  • 西华师范大学,物理与电子信息学院,四川,南充,637002

摘要: 采用直流磁控溅射方法制备膜厚为50, 100, 200, 400, 600 nm的Nb薄膜,对薄膜的沉积速率、表面形貌、晶体结构进行了研究,并对其应力和择优取向进行了详细的分析.原子力显微镜图像显示Nb膜表面光滑、致密,均方根粗糙度达到0.1 nm量级.X射线小角衍射给出了薄膜的晶格结构、晶粒尺寸和应力情况.分析表明薄膜为多晶体心立方结构(bcc),在(110)晶面方向存在明显的择优取向,且随着薄膜厚度增大而增强.Nb膜应力先随薄膜厚度增大而增大,在200 nm时达到最大值(为1.015 1 GPa),后随薄膜厚度的增大有所减小.

English Abstract

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