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高反射率Mo/B4C多层膜设计及制备

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张慧晶, 张众, 朱京涛, 白亮, 陈锐, 黄秋实, 刘丽琴, 谭默言, 王风丽, 王占山, 陈玲燕. 2008: 高反射率Mo/B4C多层膜设计及制备, 强激光与粒子束, 20(1): 67-70.
引用本文: 张慧晶, 张众, 朱京涛, 白亮, 陈锐, 黄秋实, 刘丽琴, 谭默言, 王风丽, 王占山, 陈玲燕. 2008: 高反射率Mo/B4C多层膜设计及制备, 强激光与粒子束, 20(1): 67-70.
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ZHANG Hui-jing, ZHANG Zhong, ZHU Jing-tao, BAI Liang, CHEN Rui, HUANG Qiu-shi, LIU Li-qin, TAN Mo-yan, WANG Feng-li, WANG Zhan-shan, CHEN Ling-yan. 2008: Design and fabrication of high reflectivity Mo/B4C multilayer mirrors, High Power Lase and Particle Beams, 20(1): 67-70.
Citation: ZHANG Hui-jing, ZHANG Zhong, ZHU Jing-tao, BAI Liang, CHEN Rui, HUANG Qiu-shi, LIU Li-qin, TAN Mo-yan, WANG Feng-li, WANG Zhan-shan, CHEN Ling-yan. 2008: Design and fabrication of high reflectivity Mo/B4C multilayer mirrors, High Power Lase and Particle Beams, 20(1): 67-70.
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高反射率Mo/B4C多层膜设计及制备

  • 同济大学,精密光学工程技术研究所,物理系,上海,200092

Design and fabrication of high reflectivity Mo/B4C multilayer mirrors

  • 摘要: 运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构.入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%.采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜.通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力.另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm, Mo膜厚1.97 nm, B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%.制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%.最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm.
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-01-30

高反射率Mo/B4C多层膜设计及制备

  • 同济大学,精密光学工程技术研究所,物理系,上海,200092

摘要: 运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构.入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%.采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜.通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力.另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm, Mo膜厚1.97 nm, B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%.制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%.最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm.

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