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离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性

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王聪娟, 晋云霞, 邵建达, 范正修. 2007: 离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性, 强激光与粒子束, 19(12): 2087-2090.
引用本文: 王聪娟, 晋云霞, 邵建达, 范正修. 2007: 离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性, 强激光与粒子束, 19(12): 2087-2090.
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WANG Cong-juan, JIN Yun-xia, SHAO Jian-da, FAN Zheng-xiu. 2007: Characters of hafnium oxide deposited by reactive ion-assisted deposition, High Power Lase and Particle Beams, 19(12): 2087-2090.
Citation: WANG Cong-juan, JIN Yun-xia, SHAO Jian-da, FAN Zheng-xiu. 2007: Characters of hafnium oxide deposited by reactive ion-assisted deposition, High Power Lase and Particle Beams, 19(12): 2087-2090.
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离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,光学薄膜技术研究发展中心,上海,201800

Characters of hafnium oxide deposited by reactive ion-assisted deposition

  • 摘要: 采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜,对样品的光学性能、结构特性以及激光损伤特性进行了研究.实验结果表明:通过反应沉积的方法可以有效减少缺陷产生并改善均匀性,施加离子辅助可以提高薄膜的折射率,在一定条件下还可以有效地降低吸收,但激光损伤阈值仍未达到直接采用氧化铪制备的水平;晶体结构方面,离子辅助条件下可以获得单斜相氧化铪薄膜,并且随着轰击能量的提高由(002)面的择优取向向(-111)面转变.
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出版历程
  • 刊出日期:  2007-12-30

离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,光学薄膜技术研究发展中心,上海,201800

摘要: 采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜,对样品的光学性能、结构特性以及激光损伤特性进行了研究.实验结果表明:通过反应沉积的方法可以有效减少缺陷产生并改善均匀性,施加离子辅助可以提高薄膜的折射率,在一定条件下还可以有效地降低吸收,但激光损伤阈值仍未达到直接采用氧化铪制备的水平;晶体结构方面,离子辅助条件下可以获得单斜相氧化铪薄膜,并且随着轰击能量的提高由(002)面的择优取向向(-111)面转变.

English Abstract

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