X射线反射法测量α:CH薄膜的密度和厚度

张继成; 唐永建; 吴卫东

强激光与粒子束

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张继成, 唐永建, 吴卫东. 2007: X射线反射法测量α:CH薄膜的密度和厚度, 强激光与粒子束, 19(8): 1317-1320.

引用本文:

张继成, 唐永建, 吴卫东. 2007: X射线反射法测量α:CH薄膜的密度和厚度, 强激光与粒子束, 19(8): 1317-1320.

ZHANG Ji-cheng, TANG Yong-jian, WU Wei-dong. 2007: X-ray reflectivity characterization of thickness and mass density of α:CH films, High Power Lase and Particle Beams, 19(8): 1317-1320.

Citation:

ZHANG Ji-cheng, TANG Yong-jian, WU Wei-dong. 2007: X-ray reflectivity characterization of thickness and mass density of α:CH films, High Power Lase and Particle Beams, 19(8): 1317-1320.

X射线反射法测量α:CH薄膜的密度和厚度

中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900

X-ray reflectivity characterization of thickness and mass density of α:CH films

摘要: 利用低压等离子体化学气相沉积法制备厚度不同的非晶碳氢薄膜,采用X射线反射法测量了非晶碳氢薄膜的密度和厚度.实验中分别采用曲线拟合法和周期估算法计算薄膜的厚度,两种方法测得的厚度平均差别为5.5%,一致性较好.利用X射线反射谱的临界角计算所得的7个样品的密度差别较小,在8%之内.
- X射线反射法 /
- 非晶碳氢薄膜 /
- 密度 /
- 厚度