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SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响

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于爱芳, 范飞镝, 刘中星, 朱镛, 陈创天. 2007: SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响, 强激光与粒子束, 19(4): 603-606.
引用本文: 于爱芳, 范飞镝, 刘中星, 朱镛, 陈创天. 2007: SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响, 强激光与粒子束, 19(4): 603-606.
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YU Ai-fang, FAN Fei-di, LIU Zhong-xing, ZHU Yong, CHEN Chuang-tian. 2007: Effect of SiO2 barrier layer on laser induced damage threshold of second harmonic antireflection coatings on LiB3O5 crystal, High Power Lase and Particle Beams, 19(4): 603-606.
Citation: YU Ai-fang, FAN Fei-di, LIU Zhong-xing, ZHU Yong, CHEN Chuang-tian. 2007: Effect of SiO2 barrier layer on laser induced damage threshold of second harmonic antireflection coatings on LiB3O5 crystal, High Power Lase and Particle Beams, 19(4): 603-606.
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SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响

  • 中国科学院,理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080;中国科学院,研究生院,北京,100039

  • 中国科学院,理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080

Effect of SiO2 barrier layer on laser induced damage threshold of second harmonic antireflection coatings on LiB3O5 crystal

  • 摘要: 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1 064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨.实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力.
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出版历程
  • 刊出日期:  2007-04-30

SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响

  • 中国科学院,理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080;中国科学院,研究生院,北京,100039
  • 中国科学院,理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080

摘要: 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1 064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨.实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力.

English Abstract

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