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用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜

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秦俊岭, 邵建达, 易葵. 2007: 用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜, 强激光与粒子束, 19(1): 67-70.
引用本文: 秦俊岭, 邵建达, 易葵. 2007: 用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜, 强激光与粒子束, 19(1): 67-70.
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QIN Jun-ling, SHAO Jian-da, YI Kui. 2007: Mo/Si multilayers prepared with different sputtering power of Mo target, High Power Lase and Particle Beams, 19(1): 67-70.
Citation: QIN Jun-ling, SHAO Jian-da, YI Kui. 2007: Mo/Si multilayers prepared with different sputtering power of Mo target, High Power Lase and Particle Beams, 19(1): 67-70.
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用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院,研究生院,北京,100039

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800

Mo/Si multilayers prepared with different sputtering power of Mo target

  • 摘要: 用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化.随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率.研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小.
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出版历程
  • 刊出日期:  2007-01-30

用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院,研究生院,北京,100039
  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800

摘要: 用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化.随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率.研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小.

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