取样光栅镀膜减反技术研究

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刘全, 吴建宏. 2007: 取样光栅镀膜减反技术研究, 强激光与粒子束, 19(1): 75-78.
引用本文: 刘全, 吴建宏. 2007: 取样光栅镀膜减反技术研究, 强激光与粒子束, 19(1): 75-78.
LIU Quan, WU Jian-hong. 2007: Anti-reflection technology for beam sampling grating, High Power Lase and Particle Beams, 19(1): 75-78.
Citation: LIU Quan, WU Jian-hong. 2007: Anti-reflection technology for beam sampling grating, High Power Lase and Particle Beams, 19(1): 75-78.

取样光栅镀膜减反技术研究

Anti-reflection technology for beam sampling grating

  • 摘要: 根据惯性约束聚变系统技术要求,提出了镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响零级透过率的问题.使用严格耦合波理论分析了镀sol-gel减反膜的取样光栅特性,详细地分析了仿形膜和平面膜的减反情况和取样效率的变化.结果发现,镀平面膜是一种可行的技术方案,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过取样光栅镀膜减反来达到提高透射率的目的;裸光栅的深度为12 nm时,平面减反膜厚为60 nm,即光学厚度为等效1/4波长:72 nm.此时的透射率为99.8%,取样效率为0.241‰.
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出版历程
  • 刊出日期:  2007-01-30

取样光栅镀膜减反技术研究

  • 苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006

摘要: 根据惯性约束聚变系统技术要求,提出了镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响零级透过率的问题.使用严格耦合波理论分析了镀sol-gel减反膜的取样光栅特性,详细地分析了仿形膜和平面膜的减反情况和取样效率的变化.结果发现,镀平面膜是一种可行的技术方案,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过取样光栅镀膜减反来达到提高透射率的目的;裸光栅的深度为12 nm时,平面减反膜厚为60 nm,即光学厚度为等效1/4波长:72 nm.此时的透射率为99.8%,取样效率为0.241‰.

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