电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响

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张自成, 张建德, 杨建华, 周相. 2005: 电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响, 强激光与粒子束, 17(3): 463-465.
引用本文: 张自成, 张建德, 杨建华, 周相. 2005: 电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响, 强激光与粒子束, 17(3): 463-465.
ZHANG Zi-cheng, ZHANG Jian-de, YANG Jian-hua, ZHOU Xiang. 2005: Influence of polished surface of electrodes on high electrical breakdown for water dielectric, High Power Lase and Particle Beams, 17(3): 463-465.
Citation: ZHANG Zi-cheng, ZHANG Jian-de, YANG Jian-hua, ZHOU Xiang. 2005: Influence of polished surface of electrodes on high electrical breakdown for water dielectric, High Power Lase and Particle Beams, 17(3): 463-465.

电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响

Influence of polished surface of electrodes on high electrical breakdown for water dielectric

  • 摘要: 采用水介质同轴实验装置,改变电极表面的光滑程度,在μs级充电时进行水介质击穿实验,并对实验结果进行了分析和解释.结果表明:抛光电极表面可有效提高水介质耐高电压击穿能力;表面粗糙度为0.4~0.8 μm的抛光电极表面的击穿场强比表面粗糙度为1.6~3.2 μm的粗糙抛光电极表面,更符合Martin公式.电极表面光滑程度的改善,使阴极场致发射电流减弱进而击穿延迟时间变长,气泡也更难以附着在光滑的电极表面,从而可以提高水介质耐高电压击穿能力.
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-03-30

电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响

  • 国防科学技术大学,光电科学与工程学院,湖南,长沙,410073

摘要: 采用水介质同轴实验装置,改变电极表面的光滑程度,在μs级充电时进行水介质击穿实验,并对实验结果进行了分析和解释.结果表明:抛光电极表面可有效提高水介质耐高电压击穿能力;表面粗糙度为0.4~0.8 μm的抛光电极表面的击穿场强比表面粗糙度为1.6~3.2 μm的粗糙抛光电极表面,更符合Martin公式.电极表面光滑程度的改善,使阴极场致发射电流减弱进而击穿延迟时间变长,气泡也更难以附着在光滑的电极表面,从而可以提高水介质耐高电压击穿能力.

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