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真空退火对355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜性能的影响

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占美琼, 黄建兵, 尚淑珍, 贺洪波, 邵建达. 2004: 真空退火对355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜性能的影响, 强激光与粒子束, 16(11): 1389-1392.
引用本文: 占美琼, 黄建兵, 尚淑珍, 贺洪波, 邵建达. 2004: 真空退火对355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜性能的影响, 强激光与粒子束, 16(11): 1389-1392.
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2004: Effects of vacuum annealing on the performance of 355nm Al2O3/MgF2 high reflectance coatings, High Power Lase and Particle Beams, 16(11): 1389-1392.
Citation: 2004: Effects of vacuum annealing on the performance of 355nm Al2O3/MgF2 high reflectance coatings, High Power Lase and Particle Beams, 16(11): 1389-1392.
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真空退火对355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜性能的影响

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800

Effects of vacuum annealing on the performance of 355nm Al2O3/MgF2 high reflectance coatings

  • 摘要: 采用电子束蒸发沉积技术制备了355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜,并在真空中进行不同温度梯度的退火,用X射线衍射(XRD)观察了薄膜微结构的变化,用355nm Nd:YAG脉冲激光测试了薄膜的激光损伤阚值,用Lambda 900光谱仪测试了薄膜的透过和反射光谱.结果表明在工艺条件相同的条件下真空退火过程对薄膜的性能有很大的影响,退火温度梯度越小的样品,吸收越小,阈值越大,并且是非晶结构.选择合适的真空退火过程可以减少355nm Al2O3/MgF2高反射膜的膜层吸收,提高薄膜的激光损伤阈值.
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出版历程
  • 刊出日期:  2004-11-30

真空退火对355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜性能的影响

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800

摘要: 采用电子束蒸发沉积技术制备了355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜,并在真空中进行不同温度梯度的退火,用X射线衍射(XRD)观察了薄膜微结构的变化,用355nm Nd:YAG脉冲激光测试了薄膜的激光损伤阚值,用Lambda 900光谱仪测试了薄膜的透过和反射光谱.结果表明在工艺条件相同的条件下真空退火过程对薄膜的性能有很大的影响,退火温度梯度越小的样品,吸收越小,阈值越大,并且是非晶结构.选择合适的真空退火过程可以减少355nm Al2O3/MgF2高反射膜的膜层吸收,提高薄膜的激光损伤阈值.

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