用1064nm激光增强HfO2/SiO2薄膜的抗激光损伤能力的实验研究

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胡建平, 马平, 许乔. 2003: 用1064nm激光增强HfO2/SiO2薄膜的抗激光损伤能力的实验研究, 强激光与粒子束, 15(11): 1053-1056.
引用本文: 胡建平, 马平, 许乔. 2003: 用1064nm激光增强HfO2/SiO2薄膜的抗激光损伤能力的实验研究, 强激光与粒子束, 15(11): 1053-1056.
2003: Damage threshold improvement of HfO2/SiO2 coating by 1 064nm laser conditioning, High Power Lase and Particle Beams, 15(11): 1053-1056.
Citation: 2003: Damage threshold improvement of HfO2/SiO2 coating by 1 064nm laser conditioning, High Power Lase and Particle Beams, 15(11): 1053-1056.

用1064nm激光增强HfO2/SiO2薄膜的抗激光损伤能力的实验研究

Damage threshold improvement of HfO2/SiO2 coating by 1 064nm laser conditioning

  • 摘要: 用1 064nm激光实验研究了HfO2/SiO2薄膜的激光损伤增强效应,实验以薄膜激光损伤阈值70%的激光能量开始,采用N-ON-1方式处理薄膜,激光脉冲的能量增量为5J/cm2.实验结果表明,激光处理薄膜表面能使激光损伤阈值平均提高到3倍左右,并且薄膜的损伤尺度也明显减小.对有缺陷的薄膜,其缺陷经低能量激光后熔和消除,其抗激光损伤能力得到增强,但增强得并不显著,而薄膜本身的激光预处理,可以使其激光损伤阈值大大提高.
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出版历程
  • 刊出日期:  2003-11-30

用1064nm激光增强HfO2/SiO2薄膜的抗激光损伤能力的实验研究

  • 成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041

摘要: 用1 064nm激光实验研究了HfO2/SiO2薄膜的激光损伤增强效应,实验以薄膜激光损伤阈值70%的激光能量开始,采用N-ON-1方式处理薄膜,激光脉冲的能量增量为5J/cm2.实验结果表明,激光处理薄膜表面能使激光损伤阈值平均提高到3倍左右,并且薄膜的损伤尺度也明显减小.对有缺陷的薄膜,其缺陷经低能量激光后熔和消除,其抗激光损伤能力得到增强,但增强得并不显著,而薄膜本身的激光预处理,可以使其激光损伤阈值大大提高.

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