电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

王英剑; 李庆国; 范正修

强激光与粒子束

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王英剑, 李庆国, 范正修. 2003: 电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响, 强激光与粒子束, 15(9): 841-844.

引用本文:

王英剑, 李庆国, 范正修. 2003: 电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响, 强激光与粒子束, 15(9): 841-844.

2003: Property comparison of optical thin films prepared by E-beam, ion assisted deposition and ion beam sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 15(9): 841-844.

Citation:

2003: Property comparison of optical thin films prepared by E-beam, ion assisted deposition and ion beam sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 15(9): 841-844.

电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800

Property comparison of optical thin films prepared by E-beam, ion assisted deposition and ion beam sputtering

摘要: 运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响,以判断合理的沉积工艺.
- 电子束 /
- 离子辅助 /
- 离子束溅射 /
- 薄膜特性