等离子体渗氮与氮化钛膜沉积一体化工艺对膜基结合力的影响

强激光与粒子束

, , , ,

肖志刚, 林东生, 张宏, 关颖, 叶锡生. 2002: 等离子体渗氮与氮化钛膜沉积一体化工艺对膜基结合力的影响, 强激光与粒子束, 14(1): 77-80.

引用本文:

肖志刚, 林东生, 张宏, 关颖, 叶锡生. 2002: 等离子体渗氮与氮化钛膜沉积一体化工艺对膜基结合力的影响, 强激光与粒子束, 14(1): 77-80.

2002: Effect on substrate-film adherence of TiN film enhanced plasma nitriding, High Power Lase and Particle Beams, 14(1): 77-80.

Citation:

2002: Effect on substrate-film adherence of TiN film enhanced plasma nitriding, High Power Lase and Particle Beams, 14(1): 77-80.

Effect on substrate-film adherence of TiN film enhanced plasma nitriding

摘要: 在一种增强型多弧镀膜装置上,实现了低温等离子体渗氮同氮化钛硬质膜沉积联合处理工艺.通过扫描电镜对膜层结构的分析,氮化钛硬质膜与基体之间具有相适应的力学性能,并在膜基界面处形成氮化物的混合层.通过对膜基结合力的定量测试,证实该工艺大幅度提高了膜基结合力.
- 等离子体发生器 /
- 渗氮 /
- 氮化钛膜