高级搜索

用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版

,  ,  ,  , 

downloadPDF

上一篇

下一篇

张新宇, 汤庆乐, 张智, 易新建, 裴先登. 2002: 用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版, 强激光与粒子束, 14(1): 129-133.
引用本文: 张新宇, 汤庆乐, 张智, 易新建, 裴先登. 2002: 用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版, 强激光与粒子束, 14(1): 129-133.
shu
2002: DNA microarray plate in quartz glass substrate fabricated by ion beam etching, High Power Lase and Particle Beams, 14(1): 129-133.
Citation: 2002: DNA microarray plate in quartz glass substrate fabricated by ion beam etching, High Power Lase and Particle Beams, 14(1): 129-133.
shu

用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版

  • 华中科技大学,计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北,武汉,430074

  • 中国船舶重工集团,华中光电技术研究所,湖北,武汉,430074

  • 华中科技大学,光电子工程系,湖北,武汉,430074

DNA microarray plate in quartz glass substrate fabricated by ion beam etching

  • 摘要: 采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英DNA芯片模版,利用扫描电子显微镜(SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英DNA芯片模版的表面微结构形貌特征,分析了所制石英DNA芯片模版出现图形畸变的原因.所用工艺为在其它衬底材料表面制作更大规模及具有复杂结构的大面阵DNA芯片模版奠定了基础.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  515
  • HTML全文浏览数:  103
  • PDF下载数:  27
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2002-01-30

用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版

  • 华中科技大学,计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北,武汉,430074
  • 中国船舶重工集团,华中光电技术研究所,湖北,武汉,430074
  • 华中科技大学,光电子工程系,湖北,武汉,430074

摘要: 采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英DNA芯片模版,利用扫描电子显微镜(SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英DNA芯片模版的表面微结构形貌特征,分析了所制石英DNA芯片模版出现图形畸变的原因.所用工艺为在其它衬底材料表面制作更大规模及具有复杂结构的大面阵DNA芯片模版奠定了基础.

English Abstract

    全文HTML

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回