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软X射线投影光刻技术

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金春水, 王占山, 曹健林. 2000: 软X射线投影光刻技术, 强激光与粒子束, 12(5): 559-564.
引用本文: 金春水, 王占山, 曹健林. 2000: 软X射线投影光刻技术, 强激光与粒子束, 12(5): 559-564.
shu
JINChun-shui, WANGZhan-shan, CAOJian-lin. 2000: Soft X-ray Projection Lithography Technology, High Power Lase and Particle Beams, 12(5): 559-564.
Citation: JINChun-shui, WANGZhan-shan, CAOJian-lin. 2000: Soft X-ray Projection Lithography Technology, High Power Lase and Particle Beams, 12(5): 559-564.
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软X射线投影光刻技术

  • 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,长春,130022

Soft X-ray Projection Lithography Technology

  • 摘要: 软X射线投影光刻作为特征线宽小于0.1μm的集成电路制造技术,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视.随着用于软X射线投影光刻的无污染激光等离子体光源、高分辨率大视场投影光学系统、无应力光学装调工艺、深亚纳米级镜面加工和多层膜制备、低缺陷反射式掩模、表面成像光刻胶、精密扫描机构等关键技术均取得了突破.
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出版历程
  • 刊出日期:  2000-09-30

软X射线投影光刻技术

  • 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,长春,130022

摘要: 软X射线投影光刻作为特征线宽小于0.1μm的集成电路制造技术,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视.随着用于软X射线投影光刻的无污染激光等离子体光源、高分辨率大视场投影光学系统、无应力光学装调工艺、深亚纳米级镜面加工和多层膜制备、低缺陷反射式掩模、表面成像光刻胶、精密扫描机构等关键技术均取得了突破.

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