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用自洽的蒙特卡罗-流体结合模型模拟溅射过程

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张云驰, 赵夔, 张保澄, 谢大林, 唐渝兴, 杨希. 2000: 用自洽的蒙特卡罗-流体结合模型模拟溅射过程, 强激光与粒子束, 12(2): 196-200.
引用本文: 张云驰, 赵夔, 张保澄, 谢大林, 唐渝兴, 杨希. 2000: 用自洽的蒙特卡罗-流体结合模型模拟溅射过程, 强激光与粒子束, 12(2): 196-200.
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ZHANG Yun-chi, ZHAO Kui, ZHANG Bao-cheng, XIE Da-lin, TANG Yu-xing, YANG Xi. 2000: A HYBRID SIMULATION OF SPUTTERING-DEPOSITION PROCESS: COMBINED FLUID AND MONTE CARLO MODEL, High Power Lase and Particle Beams, 12(2): 196-200.
Citation: ZHANG Yun-chi, ZHAO Kui, ZHANG Bao-cheng, XIE Da-lin, TANG Yu-xing, YANG Xi. 2000: A HYBRID SIMULATION OF SPUTTERING-DEPOSITION PROCESS: COMBINED FLUID AND MONTE CARLO MODEL, High Power Lase and Particle Beams, 12(2): 196-200.
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用自洽的蒙特卡罗-流体结合模型模拟溅射过程

  • 北京大学重离子所,北京大学技术物理系,100871

A HYBRID SIMULATION OF SPUTTERING-DEPOSITION PROCESS: COMBINED FLUID AND MONTE CARLO MODEL

  • 摘要: 采用自洽的蒙特卡罗-流体结合模型对溅射过程进行模拟,以了解等离子体粒子行为与溅射参数的关系.溅射过程包括气体放电和溅射原子传输.对于气体放电,蒙特卡罗部分模拟快电子和快气体原子,而流体部分则描述离子和慢电子.对于溅射原子传输,蒙特卡罗部分模拟溅射原子的碰撞过程,而流体部分则描述溅射原子的扩散和漂移.模拟的结果包括:等离子体粒子的密度和能量分布;不同电离机制对气体原子和溅射原子电离的贡献;不同等离子体粒子对阴极溅射碰撞的贡献;溅射原子的密度分布;溅射场和溅射粒子相对于入射离子能量和角度的分布;溅射原子经碰撞后在整个等离子体区的分布.
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出版历程
  • 刊出日期:  2000-03-30

用自洽的蒙特卡罗-流体结合模型模拟溅射过程

  • 北京大学重离子所,北京大学技术物理系,100871

摘要: 采用自洽的蒙特卡罗-流体结合模型对溅射过程进行模拟,以了解等离子体粒子行为与溅射参数的关系.溅射过程包括气体放电和溅射原子传输.对于气体放电,蒙特卡罗部分模拟快电子和快气体原子,而流体部分则描述离子和慢电子.对于溅射原子传输,蒙特卡罗部分模拟溅射原子的碰撞过程,而流体部分则描述溅射原子的扩散和漂移.模拟的结果包括:等离子体粒子的密度和能量分布;不同电离机制对气体原子和溅射原子电离的贡献;不同等离子体粒子对阴极溅射碰撞的贡献;溅射原子的密度分布;溅射场和溅射粒子相对于入射离子能量和角度的分布;溅射原子经碰撞后在整个等离子体区的分布.

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