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介质部分填充平行平板传输线微放电过程分析

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翟永贵, 王瑞, 王洪广, 林舒, 陈坤, 李永东. 2018: 介质部分填充平行平板传输线微放电过程分析, 物理学报, 67(15): 353-361. doi: 10.7498/aps.67.20180351
引用本文: 翟永贵, 王瑞, 王洪广, 林舒, 陈坤, 李永东. 2018: 介质部分填充平行平板传输线微放电过程分析, 物理学报, 67(15): 353-361. doi: 10.7498/aps.67.20180351
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Zhai Yong-Gui, Wang Rui, Wang Hong-Guang, Lin Shu, Chen Kun, Li Yong-Dong. 2018: Multipactor in parallel-plate transmission line partially filled with dielectric material, Acta Physica Sinica, 67(15): 353-361. doi: 10.7498/aps.67.20180351
Citation: Zhai Yong-Gui, Wang Rui, Wang Hong-Guang, Lin Shu, Chen Kun, Li Yong-Dong. 2018: Multipactor in parallel-plate transmission line partially filled with dielectric material, Acta Physica Sinica, 67(15): 353-361. doi: 10.7498/aps.67.20180351
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介质部分填充平行平板传输线微放电过程分析

  • 西安交通大学电子与信息工程学院, 电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049

  • 西安交通大学电子与信息工程学院, 电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049;中国空间技术研究院西安分院, 空间微波技术重点实验室, 西安 710100

Multipactor in parallel-plate transmission line partially filled with dielectric material

  • 摘要: 本文主要研究了介质填充微波部件微放电随时间演变的过程,重点分析了介质微波部件微放电自熄灭机理.以介质部分填充平行平板传输线为研究对象,忽略空间电荷效应,采用自主研发粒子模拟软件模拟微放电过程,并将模拟结果与金属微波部件结果进行对比.结果表明,在一定功率下,金属微放电过程中电子数目呈指数形式增长,而介质微放电过程经历初始电子倍增后发生自熄灭现象,同时发现在电子数目即将下降为0时,介质表面的平均二次电子发射系数大于1或约等于1.另外,在上述模拟结果的基础上对微放电过程中介质表面积累电荷问题进一步分析,模拟结果表明,如果持续向微波部件内注入电子,介质表面的平均二次电子发射系数最终都约等于1.所得结论对研究复杂介质填充微波部件微放电的机理具有一定的理论指导价值.
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出版历程
  • 刊出日期:  2018-08-15

介质部分填充平行平板传输线微放电过程分析

  • 西安交通大学电子与信息工程学院, 电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049
  • 西安交通大学电子与信息工程学院, 电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049;中国空间技术研究院西安分院, 空间微波技术重点实验室, 西安 710100

摘要: 本文主要研究了介质填充微波部件微放电随时间演变的过程,重点分析了介质微波部件微放电自熄灭机理.以介质部分填充平行平板传输线为研究对象,忽略空间电荷效应,采用自主研发粒子模拟软件模拟微放电过程,并将模拟结果与金属微波部件结果进行对比.结果表明,在一定功率下,金属微放电过程中电子数目呈指数形式增长,而介质微放电过程经历初始电子倍增后发生自熄灭现象,同时发现在电子数目即将下降为0时,介质表面的平均二次电子发射系数大于1或约等于1.另外,在上述模拟结果的基础上对微放电过程中介质表面积累电荷问题进一步分析,模拟结果表明,如果持续向微波部件内注入电子,介质表面的平均二次电子发射系数最终都约等于1.所得结论对研究复杂介质填充微波部件微放电的机理具有一定的理论指导价值.

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