GaN MMIC中SiN介质MIM电容的可靠性

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王鑫华, 王建辉, 庞磊, 陈晓娟, 袁婷婷, 罗卫军, 刘新宇. 2012: GaN MMIC中SiN介质MIM电容的可靠性, 物理学报, 61(17): 476-481.
引用本文: 王鑫华, 王建辉, 庞磊, 陈晓娟, 袁婷婷, 罗卫军, 刘新宇. 2012: GaN MMIC中SiN介质MIM电容的可靠性, 物理学报, 61(17): 476-481.
2012: Reliability of SiN-based MIM capacitors in GaN MMIC, Acta Physica Sinica, 61(17): 476-481.
Citation: 2012: Reliability of SiN-based MIM capacitors in GaN MMIC, Acta Physica Sinica, 61(17): 476-481.

GaN MMIC中SiN介质MIM电容的可靠性

Reliability of SiN-based MIM capacitors in GaN MMIC

  • 摘要: 本文通过恒定应力加速实验对GaN微波单片集成电路中SiN介质MIM电容的可靠性进行了评估,研究了高场下MIM电容的两种失效模式、临界介质击穿电荷密度以及平均失效前时间.通过不同温度下介质电容的导电特性求解了介质内的缺陷能级.重点分析了SiN介质MIM电容的退化机理,研究认为高应力下介质内产生新的施主型缺陷,并占据主导地位,其缺陷能级逐渐向深能级转移;缺陷的持续增加加剧了介质内载流子的散射,导致应力后期泄漏电流降低.SiN介质MIM电容退化机理的研究为加固介质电容提供了依据.
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出版历程
  • 刊出日期:  2012-09-15

GaN MMIC中SiN介质MIM电容的可靠性

  • 中国科学院微电子研究所,微电子器件与集成技术重点实验室,北京100029

摘要: 本文通过恒定应力加速实验对GaN微波单片集成电路中SiN介质MIM电容的可靠性进行了评估,研究了高场下MIM电容的两种失效模式、临界介质击穿电荷密度以及平均失效前时间.通过不同温度下介质电容的导电特性求解了介质内的缺陷能级.重点分析了SiN介质MIM电容的退化机理,研究认为高应力下介质内产生新的施主型缺陷,并占据主导地位,其缺陷能级逐渐向深能级转移;缺陷的持续增加加剧了介质内载流子的散射,导致应力后期泄漏电流降低.SiN介质MIM电容退化机理的研究为加固介质电容提供了依据.

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