表面波等离子体源的发展现状

上一篇

下一篇

董太源, 叶坤涛, 刘维清. 2012: 表面波等离子体源的发展现状, 物理学报, 61(14): 287-293.
引用本文: 董太源, 叶坤涛, 刘维清. 2012: 表面波等离子体源的发展现状, 物理学报, 61(14): 287-293.
2012: The current status of surface wave plasma source development, Acta Physica Sinica, 61(14): 287-293.
Citation: 2012: The current status of surface wave plasma source development, Acta Physica Sinica, 61(14): 287-293.

表面波等离子体源的发展现状

The current status of surface wave plasma source development

  • 摘要: 对微波放电产生的平板型表面波等离予体源进行了系统介绍,分析了表面波等离子体的工作原理,探讨了维持表面波等离子体放电的能量吸收机制,介绍了由单模谐振腔阵列、亚波长衍射光栅及开槽天线阵列组成的新型波模转换器.表面波等离子体的产生机理、实现途径、参数特性和数值仿真等方面的研究进展及其所取得的成果,有利于促进新型表面波等离子体源走向产业化应用,并促使微电子产业的功效取得新的突破.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  557
  • HTML全文浏览数:  69
  • PDF下载数:  0
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2012-07-30

表面波等离子体源的发展现状

  • 江西理工大学理学院,赣州,341000

摘要: 对微波放电产生的平板型表面波等离予体源进行了系统介绍,分析了表面波等离子体的工作原理,探讨了维持表面波等离子体放电的能量吸收机制,介绍了由单模谐振腔阵列、亚波长衍射光栅及开槽天线阵列组成的新型波模转换器.表面波等离子体的产生机理、实现途径、参数特性和数值仿真等方面的研究进展及其所取得的成果,有利于促进新型表面波等离子体源走向产业化应用,并促使微电子产业的功效取得新的突破.

English Abstract

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回