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基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学常数

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廖国进, 骆红, 闫绍峰, 戴晓春, 陈明. 2011: 基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学常数, 物理学报, 60(3): 229-235.
引用本文: 廖国进, 骆红, 闫绍峰, 戴晓春, 陈明. 2011: 基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学常数, 物理学报, 60(3): 229-235.
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Liao Guo-Jin, Luo Hong, Yan Shao-Feng, Dai Xiao-Chun, Chen Ming. 2011: Determination of the optical constants of the magnetron sputtered aluminum oxide films from the transmission spectra, Acta Physica Sinica, 60(3): 229-235.
Citation: Liao Guo-Jin, Luo Hong, Yan Shao-Feng, Dai Xiao-Chun, Chen Ming. 2011: Determination of the optical constants of the magnetron sputtered aluminum oxide films from the transmission spectra, Acta Physica Sinica, 60(3): 229-235.
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基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学常数

  • 辽宁工业大学机械工程与自动化学院,锦州,121001

  • 中石油东北炼化工程有限公司锦州设计院,锦州,121001

Determination of the optical constants of the magnetron sputtered aluminum oxide films from the transmission spectra

  • 摘要: 基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外一可见一近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在200-1100 nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率(1.556-1.76,测试波长为550nm)、低吸收和直接能量带隙(3.91-4.20 eV)等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数--膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.
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出版历程
  • 刊出日期:  2011-03-30

基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学常数

  • 辽宁工业大学机械工程与自动化学院,锦州,121001
  • 中石油东北炼化工程有限公司锦州设计院,锦州,121001

摘要: 基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外一可见一近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在200-1100 nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率(1.556-1.76,测试波长为550nm)、低吸收和直接能量带隙(3.91-4.20 eV)等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数--膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.

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