不同电介质结构下介质阻挡放电特性研究

上一篇

下一篇

董丽芳, 杨玉杰, 刘为远, 岳晗, 王帅, 刘忠伟, 陈强. 2011: 不同电介质结构下介质阻挡放电特性研究, 物理学报, 60(2): 520-525.
引用本文: 董丽芳, 杨玉杰, 刘为远, 岳晗, 王帅, 刘忠伟, 陈强. 2011: 不同电介质结构下介质阻挡放电特性研究, 物理学报, 60(2): 520-525.
Dong Li-Fang, Yang Yu-Jie, Liu Wei-Yuan, Yue Han, Wang Shuai, Liu Zhong-Wei, Chen Qiang. 2011: Characteristics of dielectric barrier discharge with different dielectric layer structures, Acta Physica Sinica, 60(2): 520-525.
Citation: Dong Li-Fang, Yang Yu-Jie, Liu Wei-Yuan, Yue Han, Wang Shuai, Liu Zhong-Wei, Chen Qiang. 2011: Characteristics of dielectric barrier discharge with different dielectric layer structures, Acta Physica Sinica, 60(2): 520-525.

不同电介质结构下介质阻挡放电特性研究

Characteristics of dielectric barrier discharge with different dielectric layer structures

  • 摘要: 设计制作了单面有氧化铟锡(ITO)导电介质层的双玻璃介质层的介质阻挡放电装置,研究了其放电特性,并将其与双玻璃介质层和单玻璃介质层的介质阻挡放电进行了比较.从电荷输运的角度分析,上述三种装置分别实现了电荷的二维、零维和三维输运.采用两种不同的双玻璃介质层装置,获得了单个稳定的放电丝.与无ITO导电层的双玻璃结构得到的单个放电丝相比,单面有导电ITO介质的双玻璃结构中,单放电丝呈"T"字型,其光晕是前者光晕的2倍,其放电电流大于前者电流,其放电时间间隔长短交替现象更为明显,且存在强度大小交替的现象.分析表明,壁电荷输运及二次电子发射的不同导致了不同电介质结构放电特性的不同.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  421
  • HTML全文浏览数:  111
  • PDF下载数:  0
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2011-02-28

不同电介质结构下介质阻挡放电特性研究

  • 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002
  • 北京印刷学院等离子体物理材料实验室,北京,102600

摘要: 设计制作了单面有氧化铟锡(ITO)导电介质层的双玻璃介质层的介质阻挡放电装置,研究了其放电特性,并将其与双玻璃介质层和单玻璃介质层的介质阻挡放电进行了比较.从电荷输运的角度分析,上述三种装置分别实现了电荷的二维、零维和三维输运.采用两种不同的双玻璃介质层装置,获得了单个稳定的放电丝.与无ITO导电层的双玻璃结构得到的单个放电丝相比,单面有导电ITO介质的双玻璃结构中,单放电丝呈"T"字型,其光晕是前者光晕的2倍,其放电电流大于前者电流,其放电时间间隔长短交替现象更为明显,且存在强度大小交替的现象.分析表明,壁电荷输运及二次电子发射的不同导致了不同电介质结构放电特性的不同.

English Abstract

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回