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硬X射线相位光栅的设计与研制

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刘鑫, 雷耀虎, 赵志刚, 郭金川, 牛憨笨. 2010: 硬X射线相位光栅的设计与研制, 物理学报, 59(10): 6927-6932.
引用本文: 刘鑫, 雷耀虎, 赵志刚, 郭金川, 牛憨笨. 2010: 硬X射线相位光栅的设计与研制, 物理学报, 59(10): 6927-6932.
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Liu Xin, Lei Yao-Hu, Zhao Zhi-Gang, Guo Jin-Chuan, Niu Han-Ben. 2010: Design and fabrication of hard x-ray phase grating, Acta Physica Sinica, 59(10): 6927-6932.
Citation: Liu Xin, Lei Yao-Hu, Zhao Zhi-Gang, Guo Jin-Chuan, Niu Han-Ben. 2010: Design and fabrication of hard x-ray phase grating, Acta Physica Sinica, 59(10): 6927-6932.
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硬X射线相位光栅的设计与研制

  • 深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳,518060

Design and fabrication of hard x-ray phase grating

  • 摘要: 针对在普通实验室和医院实现40-100 keV X射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6 μm,线宽为2.8 μm,深度为40-70 μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-10-30

硬X射线相位光栅的设计与研制

  • 深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳,518060

摘要: 针对在普通实验室和医院实现40-100 keV X射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6 μm,线宽为2.8 μm,深度为40-70 μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效.

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