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约束阴极微弧氧化放电特性研究

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张欣盟, 田修波, 巩春志, 杨士勤. 2010: 约束阴极微弧氧化放电特性研究, 物理学报, 59(8): 5613-5619.
引用本文: 张欣盟, 田修波, 巩春志, 杨士勤. 2010: 约束阴极微弧氧化放电特性研究, 物理学报, 59(8): 5613-5619.
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Zhang Xin-Meng, Tian Xiu-Bo, Gong Chun-Zhi, Yang Shi-Qin. 2010: Discharge characteristics of confined cathode micro-arc oxidation, Acta Physica Sinica, 59(8): 5613-5619.
Citation: Zhang Xin-Meng, Tian Xiu-Bo, Gong Chun-Zhi, Yang Shi-Qin. 2010: Discharge characteristics of confined cathode micro-arc oxidation, Acta Physica Sinica, 59(8): 5613-5619.
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约束阴极微弧氧化放电特性研究

  • 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001

Discharge characteristics of confined cathode micro-arc oxidation

  • 摘要: 利用Na2SiO3-KOH溶液体系,以工业纯铝为基体材料对约束阴极微弧氧化的放电特性进行了研究.考察了恒压模式下电极距离对氧化电流、电位分布及起弧电压的影响,并对电极距离与微弧氧化电能利用率间的关系进行了分析.结果表明:对于阴阳极等约束条件下,随阴阳极距离加大,工作电流逐渐减小.而对于仅约束阴极情况,工作电流随着阴阳极间距增加而增大.这是由于增加阴阳极间距时,虽然约束阴极正下方试样表面的电场强度降低,工作电流减小,但远离约束电极处,阳极表面电场强度却增加,工作电流增大.起弧电压随电极间距离的增大而升高.但阳极表面电场强度几乎保持不变.微弧氧化陶瓷层厚度由处理中心沿半径向外逐渐变薄,且中心处陶瓷膜厚度随电檄距离的增大迅速减小,电能利用率随之降低.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-08-30

约束阴极微弧氧化放电特性研究

  • 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001

摘要: 利用Na2SiO3-KOH溶液体系,以工业纯铝为基体材料对约束阴极微弧氧化的放电特性进行了研究.考察了恒压模式下电极距离对氧化电流、电位分布及起弧电压的影响,并对电极距离与微弧氧化电能利用率间的关系进行了分析.结果表明:对于阴阳极等约束条件下,随阴阳极距离加大,工作电流逐渐减小.而对于仅约束阴极情况,工作电流随着阴阳极间距增加而增大.这是由于增加阴阳极间距时,虽然约束阴极正下方试样表面的电场强度降低,工作电流减小,但远离约束电极处,阳极表面电场强度却增加,工作电流增大.起弧电压随电极间距离的增大而升高.但阳极表面电场强度几乎保持不变.微弧氧化陶瓷层厚度由处理中心沿半径向外逐渐变薄,且中心处陶瓷膜厚度随电檄距离的增大迅速减小,电能利用率随之降低.

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