熔石英亚表面三维Hertz锥形划痕附近光强分布的数值模拟

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花金荣, 祖小涛, 李莉, 向霞, 陈猛, 蒋晓东, 袁晓东, 郑万国. 2010: 熔石英亚表面三维Hertz锥形划痕附近光强分布的数值模拟, 物理学报, 59(4): 2519-2524.
引用本文: 花金荣, 祖小涛, 李莉, 向霞, 陈猛, 蒋晓东, 袁晓东, 郑万国. 2010: 熔石英亚表面三维Hertz锥形划痕附近光强分布的数值模拟, 物理学报, 59(4): 2519-2524.
Hua Jin-Rung, Zu Xiao-Tao, Li Li, Xiang Xia, Chen Meng, Jiang Xiao-Dong, Yuan Xiao-Dong, Zheng Wan-Guo. 2010: Numerical simulation of light intensity distribution in the vicinity of three-dimensional Hertzian conical scratch on fused silica subsurface, Acta Physica Sinica, 59(4): 2519-2524.
Citation: Hua Jin-Rung, Zu Xiao-Tao, Li Li, Xiang Xia, Chen Meng, Jiang Xiao-Dong, Yuan Xiao-Dong, Zheng Wan-Guo. 2010: Numerical simulation of light intensity distribution in the vicinity of three-dimensional Hertzian conical scratch on fused silica subsurface, Acta Physica Sinica, 59(4): 2519-2524.

熔石英亚表面三维Hertz锥形划痕附近光强分布的数值模拟

Numerical simulation of light intensity distribution in the vicinity of three-dimensional Hertzian conical scratch on fused silica subsurface

  • 摘要: 熔石英亚表面划痕对入射激光的调制是导致光学材料损伤的主要因素.本文建立了熔石英后表面上三维Hertz锥形划痕模型,采用三维时域有限差分方法对划痕周围的电场强度进行了计算模拟,并分别讨论了划痕的深度、半径以及倾斜角度对入射光场调制作用的影响.结果表明:Hertz锥形划痕中心区域的电场增强效果最明显,最容易被辐照损伤;划痕的深度从λ变化到9.5λ的过程中,熔石英内的最大电场强度逐渐增大;半径小于1.5λ的Hertz锥形划痕较容易引起熔石英的损伤,当半径大于1.75λ时,熔石英内的最大电场强度都维持在2.5 V/m,不再受半径大小影响;当入射激光在划痕的内侧界面和熔石英后表面之间发生内全反射时,光场增强效果愈加明显.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-04-30

熔石英亚表面三维Hertz锥形划痕附近光强分布的数值模拟

  • 电子科技大学物理电子学院,成都,610054
  • 电子科技大学物理电子学院,成都,610054;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900
  • 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900

摘要: 熔石英亚表面划痕对入射激光的调制是导致光学材料损伤的主要因素.本文建立了熔石英后表面上三维Hertz锥形划痕模型,采用三维时域有限差分方法对划痕周围的电场强度进行了计算模拟,并分别讨论了划痕的深度、半径以及倾斜角度对入射光场调制作用的影响.结果表明:Hertz锥形划痕中心区域的电场增强效果最明显,最容易被辐照损伤;划痕的深度从λ变化到9.5λ的过程中,熔石英内的最大电场强度逐渐增大;半径小于1.5λ的Hertz锥形划痕较容易引起熔石英的损伤,当半径大于1.75λ时,熔石英内的最大电场强度都维持在2.5 V/m,不再受半径大小影响;当入射激光在划痕的内侧界面和熔石英后表面之间发生内全反射时,光场增强效果愈加明显.

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